气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响_林桂丹
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平面光学元件中频误差的磁流变加工控制颜浩;唐才学;罗子健;温圣林【摘要】为了利用磁流变加工实现对大口径平面光学元件波前中频误差的控制,研究了磁流变抛光去除函数的频谱误差校正能力和磁流变加工残余误差抑制方法.首先,比较了模拟加工前后元件中频功率谱密度(PSD1)误差和元件PSD曲线的变化,分析了磁流变去除函数的可修正频谱误差范围.然后,利用均匀去除方法分析了加工深度、加工轨迹间距和去除函数尺寸等磁流变加工参数对中频PSD2误差的影响,提出了抑制中频PSD2误差的方法.最后,对一块400 mm×400 mm口径平面元件的频谱误差进行了磁流变加工控制实验.实验显示:3次迭代加工后,该元件的波前PV由加工前的0.6λ收敛至0.1λ,中频PSD1误差由5.57 nm收敛至1.36 nm,PSD2由0.95 nm变化至0.88 nm.结果表明:通过优化磁流变加工参数并合理选择加工策略,可实现磁流变加工对大口径平面光学元件中频误差的收敛控制.【期刊名称】《光学精密工程》【年(卷),期】2016(024)012【总页数】7页(P3076-3082)【关键词】磁流变加工;平面光学元件;中频误差;功率谱密度;去除函数【作者】颜浩;唐才学;罗子健;温圣林【作者单位】成都精密光学工程研究中心,四川成都610041;成都精密光学工程研究中心,四川成都610041;成都精密光学工程研究中心,四川成都610041;成都精密光学工程研究中心,四川成都610041【正文语种】中文【中图分类】TN305.2;TH703激光惯性约束聚变(Inertial Confinement Fusion,ICF)工程所使用的高功率强激光装置,对大口径平面光学元件的需求数量巨大,例如美国劳伦斯·利弗莫尔国家重点实验室(Lawrence Livermore National Laboratory,LLNL)所建造的国家点火装置(Nation Ignition Facility,NIF),其192路激光束中一共使用了超过2000件口径大于400 mm的平面光学元件[1]。
气囊抛光过程的运动精度控制王飞;张健;彭利荣;王高文;隋永新【摘要】针对用于球面、非球面光学元件超精密光学加工的气囊抛光技术,提出了一套控制抛光过程中气囊运动精度的方法.该方法通过控制加工单元的温度,保证抛光过程中设备运动精度达到50μm;使用坐标传递法,使检测数据二维方向对准不确定度达到0.30~0.70 mm.另外,基于磨头去除量估计与反馈修正法,提高精抛过程面形误差收敛效率.最后,通过磨头探测校准法,将磨头与加工工件法向位置精度提高至10μm.实际抛光实验显示:使用运动精度控制法在280 mm口径的平面精密抛光中获得的面形加工精度为0.8 nm(RMS),在160 mm口径的凹球面精密抛光中获得的面形加工结果为1.1 nm(RMS),实现了超高精度面形修正的目的,为超高精度球面、非球面光学元件加工提供了一套行之有效的方法.该方法同样适用于其他接触式小磨头数控抛光方法.【期刊名称】《光学精密工程》【年(卷),期】2015(023)008【总页数】9页(P2220-2228)【关键词】光学加工;气囊抛光;运动精度;球面抛光;平面抛光【作者】王飞;张健;彭利荣;王高文;隋永新【作者单位】中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心,吉林长春130033;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心,吉林长春130033;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心,吉林长春130033;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心,吉林长春130033;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心,吉林长春130033【正文语种】中文【中图分类】TQ171.681 引言随着科技的发展,超精密光学元件在光学、电子、航空航天等诸多领域中的应用日益广泛,并且对光学元件的全频段面形精度要求越来越高,尤其在深紫外与极紫外高精度光学成像系统中,单个光学镜片的面形精度已要求达到纳米、亚纳米量级。
-174-科学技术创新2019.07气囊抛光头的研究现状王新海(陕西国防工业职业技术学院,陕西西安710300)摘要:气囊抛光头是气囊抛光技术的重要组成部分,对光学零件的超光滑表面抛光有着决定性作用。
基于现有气囊抛光技术,以凸球面光学零件抛光为例,阐述了国内常用的三种气囊抛光头的结构和抛光运动方式,对各种气囊抛光头的抛光特点进行了分析,并探讨了气囊抛光发展的方向。
关键词:气囊抛光;运动方式;机械结构中图分类号:TG580.692文献标识码:A现代信息技术、航空航天技术以及许多民用高科技产品的发展都离不开光学技术的发展叫光学零件在卫星光学系统、激光陀螺、摄影机、医疗仪器等产品中的应用越来越广泛。
然而,光学零件在应用广泛的同时对其加工精度和表面质量也提出了极高的要求,表面质量要求有光学级表面提高到超光滑级光学表面叫为了获得高精度的光学表面,人们创新了很多新的加工方法,如计算机控制小工具抛光技术、激光抛光技术、离子束抛光技术、应力抛光技术、磁流变抛光技术等气囊抛光技术具有低成本、易操作和高效率等优点,是极具发展潜力的光学抛光方法。
气囊抛光头是气囊抛光技术的核心部件,对光学零件超光滑表面的实现起着决定性作用。
1小磨头气囊抛光国内外通常采用小球冠型的气囊作为气囊抛光技术抛光文章编号:2096-4390(2019)07-0174-02头,如图1所示。
气囊抛光头由带孔的基体、气囊层、加强层和抛光膜等组成,其中气囊层、加强层和抛光膜由内到外依次为覆盖在带孔基体的端面,当往孔内充入气体时,气囊层、加强层和抛光膜等受到气体的压力而形成凸起的球冠,从而形成气囊小磨头。
抛光时,光学零件和气囊小磨头分别绕自身作旋转运动,小磨头的球冠处的小部分与光学零件相接触并挤压,抛光液经过循环系统浇注到两者之间,在两者的相对运动下实现接触区域光学零件表面的材料去除,为了实现光学零件表面的全部区域抛光,小磨头需要左右移动等辅助运动。
2大磨头气囊抛光大磨头气囊如图2所示叫气囊抛光头由基体、气囊层、加强层和抛光膜等组成,与小磨头相比,基体内的冲有一定量的气体,当抛光膜不会形成球冠。
专利名称:基于射流抛光利用稀疏双步距路径去除中频误差的加工方法
专利类型:发明专利
发明人:魏朝阳,万奎平,万嵩林,邵建达,李瀚捷,李尧
申请号:CN202210088103.2
申请日:20220125
公开号:CN114434256A
公开日:
20220506
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:一种基于射流抛光利用稀疏双步距路径去除中频误差的加工方法,步骤为:首先确定出中频误差的周期结构,并测量得到射流抛光去除函数;对中频误差和去除函数进行二维傅里叶变换,同时为了控制加工误差以中频误差波谷位置为加工路径初始位置对其进行二维傅里叶变换;通过复数频谱最优化得出加工路径初始位置与最终位置间补偿距离、相邻路径间最优步距和相应加工系数;通过得到的加工参数规划出稀疏双步距栅格路径;最终控制工业机器人加工。
本发明不需要任何附加成本,仅需改变相邻路径之间的步距和各路径对应加工系数至理论分析得到的最优值,便可高效消除工件表面周期结构状中频误差幅值,且对元件低频、高频误差无影响。
申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
地址:201800 上海市嘉定区清河路390号
国籍:CN
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第 32 卷第 3 期2024 年 2 月Vol.32 No.3Feb. 2024光学精密工程Optics and Precision Engineering全口径环形抛光的光学元件面形误差影响因素及其控制廖德锋*,张明壮,谢瑞清,赵世杰,许乔(中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳 621900)摘要:全口径环形抛光是加工大口径平面光学元件的关键技术之一,其瓶颈问题是元件面形的高效高精度控制。
通过研究元件面形的影响因素及其控制方法从而提升其确定性控制水平。
围绕影响面形误差的运动速度、抛光盘表面形状误差和钝化状态等关键工艺因素,建立基于运动轨迹有效弧长的环形抛光运动学模型,揭示了抛光盘表面开槽槽型对面形误差的影响规律;提出了采用位移传感器以螺旋路径扫描抛光盘表面并通过插值算法生成其形状误差的方法,建立基于小工具的子口径修正方法,实现了抛光盘形状误差的在位定量修正;提出抛光盘表面钝化状态的监测方法,研究了抛光盘表面钝化状态对面形误差的影响规律。
结果表明:抛光盘表面开槽采用环形槽时元件表面容易产生环带特征,采用径向槽、方形槽和螺旋槽时元件表面较为匀滑;通过在位定量检测和修正抛光盘形状误差,可显著提升元件的面形精度;随着抛光盘表面的逐渐钝化,元件面形逐渐恶化。
在研制的5 m直径大口径环形抛光机床上加工800 mm×400 mm×100 mm平面元件的面形PV值优于λ/6(λ=632.8 nm),提升了元件的面形控制效率和精度。
关键词:光学加工;全口径环形抛光;面形误差;影响规律;控制方法中图分类号:TH161 文献标识码:A doi:10.37188/OPE.20243203.0333Factors influencing surface figure of optical elements infull-aperture continuous polishing and their controlLIAO Defeng*,ZHANG Mingzhuang,XIE Ruiqing,ZHAO Shijie,XU Qiao(Physics Laser Fusion Research Center, China Academy of Engineering, Mianyang 621900, China)* Corresponding author, E-mail: defeng_liao@Abstract:Full-aperture continuous polishing is crucial for refining large flat optical elements,with the main challenge being the deterministic control of the elements' surface figure.This study delves into the factors and control strategies affecting the surface figure to enhance the process's deterministic control. It emphasizes the role of kinematic parameters, the polishing lap's surface shape, and its passivation state. A kinematic model,based on effective sliding distance,was developed to highlight the impact of the lap's groove design on the surface figure. A novel approach for measuring the lap's surface shape involves using a displacement sensor for scanning, followed by shape reconstruction through an interpolation algorithm. The paper introduces an in-situ method for precise correction of the lap's shape error using a subaperture technique with small tools. In addition, it proposes a monitoring method for the lap's surface passivation state and explores its effect on the surface figure. Findings indicate that annular grooves tend to produce an⁃文章编号1004-924X(2024)03-0333-11收稿日期:2023-05-29;修订日期:2023-06-26.基金项目:国家自然科学基金面上项目(No. 52075507)第 32 卷光学精密工程nular textures, whereas square and spiral grooves yield smoother surfaces. Through in-situ measurement and correction of the lap's shape error, significant enhancements in surface figure can be achieved. The sur⁃face deteriorates as the lap becomes more passivated. An 800 mm×400 mm×100 mm flat element pol⁃ished with this method achieved a surface figure better than λ/6. This research sheds light on the factors in⁃fluencing surface figure in full-aperture continuous polishing and introduces a quantitative control ap⁃proach, significantly enhancing the process's control precision.Key words: optical fabrication;full-aperture continuous polishing;surface figure;influencing principle;control method1 引言采用大型激光装置进行惯性约束聚变是当今国际上的前沿研究领域[1]。
第54卷 第2期厦门大学学报(自然科学版)Vol.54 No.2 2015年3月Journal of Xiamen University(Natural Science)Mar.2015 doi:10.6043/j.issn.0438-0479.2015.02.022气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响林桂丹,毕 果*,胡陈林,姜 涛,彭云峰(厦门大学物理与机电工程学院,福建厦门361005)摘要:为了寻找消除中频误差的有效抛光路径,进行了2组实验.第1组实验采用单步进动Z字光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,并对加工后得到试件表面的中频误差进行分析.第2组实验先采用单步进动Z字光栅路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,接着用基于改进普里姆(Prim)算法的路径对其进行加工,最后对加工得到光学试件表面的中频误差进行分析,从而验证基于改进Prim算法的抛光路径的优良性.关键词:抛光路径;光学试件;中频误差中图分类号:TH 744.3 文献标志码:A 文章编号:0438-0479(2015)02-0281-05收稿日期:2014-05-05 录用日期:2014-10-23 基金项目:国家自然科学基金(51275433);国家科技重大专项(2013ZX04001000-206)*通信作者:guobi@xmu.edu.com引文格式:林桂丹,毕果,胡陈林,等.气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响[J].厦门大学学报:自然科学版,2015,54(2):281-285. Citation:Lin Guidan,Bi Guo,Hu Chenlin,et al.The effect of polishing paths on the mid-frequency error of optical components[J].Journal of Xiamen University:Natural Science,2015,54(2):281-285.(in Chinese) 精密、超精密光学元件在航空、航天、国防以及民用等领域中得到了日益广泛的应用,同时,对其加工精度和表面质量也提出了极高的要求[1].传统的抛光方法在加工光学元件上存在一些明显的缺点[2],已不能满足其加工精度方面的要求,而气囊抛光作为一种高效、高精度的抛光技术应运而生,它是20世纪90年代由伦敦光学实验室和Zeeko公司合作开发,其采用具有一定充气压力的球形气囊作为抛光工具,不仅可以保证抛光头与被抛光工件表面吻合性好,而且可以通过调节压力,控制抛光效率和被抛光工件的表面质量,是一种极具发展潜力的抛光方法.在国内,哈尔滨工业大学、浙江工业大学对气囊抛光技术进行了研究,并取得了一定的成果.但目前对于气囊抛光技术的研究仍处于发展阶段,很多关键技术有待进一步深入研究.抛光轨迹作为抛光工艺规划的重要内容,将直接影响抛光效率和抛光质量.气囊抛光最主要的抛光路径包括光栅路径和螺旋线路径2种[3],但这2种路径都会不同程度地引入中高频误差,而中频误差的非线性增长最快,是对光束质量影响最大的区域[4].近年来,研究人员非常重视这一问题,纷纷寻找消除中频误差的有效方法[5].基于此,本文进行了2组实验,第1组实验采用单步进动Z字光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,并对加工后得到试件表面的中频误差进行分析.第2组实验采用单步进动Z字光栅路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,接着用基于改进普里姆(Prim)算法的路径对其进行加工,最后对加工得到光学试件表面的中频误差进行分析,从而验证基于改进Prim算法的抛光路径的优良性.1 气囊抛光实验气囊抛光作为一种新型的光学元件加工工艺,实际的抛光过程相当复杂,影响气囊抛光效率和表面质量的工艺参数很多,例如气囊的下压量、气囊的充气压力、主轴转速、进给速度、抛光液浓度等.不同的加工参数对气囊抛光后光学元件的表面质量影响程度也不相同.同时抛光路径也对抛光效率和抛光质量产生影响.本文对光学元件的气囊抛光技术进行了实验研究,实验装置为所在课题组自行研制的气囊抛光样机,如图1所示.实验中气囊抛光采用连续进动抛光的方式,即工件在抛光过程中,气囊自转轴线始终与工件上抛光点的局部法线呈一个固定的角度[6],其原理如图2所示.实验中采用的气囊抛光路径有Z字光栅路径、螺厦门大学学报(自然科学版)2015年图1 气囊抛光装置图Fig.1The apparatus of balloon polishing图2 气囊进动抛光原理图Fig.2The schematic of balloon precession polishing旋线路径和基于改进Prim算法的路径,如图3所示.光栅路径和螺旋线路径目前已被广泛使用,但加工出来的光学元件表面抛光纹路规则性强,中频误差明显.而基于改进Prim算法的路径是根据光学元件的初始面形得到的高点去除路径,该路径不仅能缩短抛光路径长度和抛光时间,还能改善抛光纹理,减小中频误差[7].实验1:采用单步进动Z字光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行气囊抛光实验,其实验条件见表1.本文用干涉仪测量这2种不同气囊抛光路径加工后得到的石英玻璃,得到加工后石英玻璃局部小区域(测量直径约为58mm)的原始面形数据.实验2:首先采用单步进动Z字光栅路径对大小为100mm×100mm的石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,接着用基于改进Prim算法的路径对其进行加工,该路径迭代2次,用干涉仪测量每一步加工后得到的光学试件,得到相应的原始面形数据.2 实验1加工后光学试件的中频误差2.1 Z字光栅路径加工后光学试件的中频误差 利用MATLAB实验平台,首先导入单步进动Z字光栅路径均匀抛实验后局部小区域的原始面形数据,从而得到其原始面形图,如图4(a)所示.接着设计了截止频率为1mm-1的理想低通滤波器对其进行滤波,得到该试件的中频误差.最后对其低通滤波后的结果进行二维傅里叶变换,将其从空间域转换到空间频域,得到的结果如图4(b)所示.由于误差的周期与空间频率成倒数关系,因此分析其中间行的结果(如图4(c)所示)可得以下结论:单步进动Z字光栅路径全面均匀抛实验后得到石英玻璃的中频误差主要包含周期为2.778和1.471mm的成分.这个结果与理论图3 抛光路径示意图Fig.3Schematic of polishing path表1 全面均匀抛光实验条件Tab.1 The experimental conditions of full uniform polishing气囊头直径/mm下压量/mm充气压力/MPa主轴转速/(r·min-1)进给速度/(mm·min-1)进动角/(°)工件直径/mm加工区域/mm80 0.7 0.25 500 600 23 120 80·282·第2期林桂丹等:气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响图4 单步进动Z字光栅路径全面均匀抛实验的面形中频误差的分离Fig.4Separation of the surface mid-frequency error polished by single precession Z-raster path分析吻合,Z字光栅路径由于其自身的规律性,导致加工得到光学试件表面周期性强,中频误差明显.图5 单步进动螺旋线路径抛光的面形中频误差的分离Fig.5Separation of the surface mid-frequency error polished by single precession spiral path2.2 螺旋线路径加工后光学试件的中频误差与2.1类似,利用MATLAB实验平台可得单步进动螺旋线路径均匀抛实验后局部小区域的原始面形图,如图5(a)所示.取其切片如图5(b)所示,接着用多项式拟合方法得到所取切片部分的趋势项,如图5(c)所示,去掉趋势项之后的结果如图5(d)所示.最后对所得结果进行傅里叶变换,将其从空间域转换到空间频域,结果如图5(e)所示.分析可得:单步进动螺旋线路径全面均匀抛实验后得到石英玻璃的中频误差主要包含周期为1.942mm的成分.这个结果与理论分析吻合,螺旋线路径由于其自身的规律性,导致加工得到光学试件表面周期性强,中频误差明显.3 实验2加工后光学试件的中频误差Prim算法是实现图的最小生成树的最常用算法[8].但据此算法得到的不是单连通的路径,不能作为抛光路径,因此从影响抛光效率和抛光纹路的因素出·382·厦门大学学报(自然科学版)2015年发,对Prim算法进行改进,提出了一种基于改进Prim算法的新的抛光路径规划方法.该路径能有效地减短抛光路径,缩短抛光时间,并对中频误差有一定的改善作用.利用MATLAB实验平台,首先导入单步进动Z字光栅路径均匀抛实验后总体面形的原始数据,从而得到其原始面形图,如图6(a)所示.经过走2次基于改进Prim算法的抛光路径实验后的面形原始数据图如图6(b)、(c)所示.取图6抛光面形原始数据图的切片,如图7(a)所示,接着用多项式拟合方法对所取切片去趋势项,结果如图7(b)所示,最后对得到的结果进行傅里叶变换,将其从空间域转换到空间频域,结果如图7(c)所示.分析可得:单步进动Z字光栅路径全面均匀抛实验后得到石英玻璃的中频误差主要包含周期为9.01mm成分;经过两步基于改进Prim算法的抛光路径抛光后得到石英玻璃的中频误差主要包含周期为8.197mm的成分.通过与实验1对比可知,基于改进Prim算法的抛光路径能对Z字光栅路径加工后光学试件表面的中频误差起到一定程度的改善作用.4 结 论本文首先分别采用单步进动Z字光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行气囊抛光实验,通过MATLAB实验平台对加工后光学试件进行处理,从而得到其中频误差.分析可得结论:加工路径不同,加工后得到试件的中频误差成分也不一样.Z字光栅路径和螺旋线路径加工得到的光学试件表面规则性强,中频误差明显.同时,采用单步进动Z字光栅路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,接着用基于改进Prim算法的路径对其进行加工,该路径迭代2次,然后基于MATLAB实验平台对加工得到光学试件表面的中频误差进行分析,得到以下结论:基于改进Prim算法的路径能改善抛光纹理,减小中频误差.综上所述,气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响明显,合理规划抛光路径能有效的减小中频误差.图6 抛光面形原始数据图Fig.6The original data graphs polishing surfaces图7 实验二加工后光学试件中频误差的分离Fig.7Separation of the surface mid-frequency error in the second experiment参考文献:[1] 张伟,李洪玉,于国彧.光学元件超精密气囊抛光关键技术研究现状[J].光学学报,2009,29(1):27-34.[2] 陈建平,沈林成.大口径非球面加工建模与控制技术[J].中国激光,2007,34(12):1705-1710.·482·第2期林桂丹等:气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响[3] Bingham R G,Walker D D,Kim D,et al.A novel automa-ted process for aspheric surfaces[J].SPIE,2000,4093:445-450.[4] 程灏波,冯之敬,王英伟.磁流变抛光光学非球面元件表面误差的评价[J].清华大学学报:自然科学版,2004,44(11):1497-1500.[5] 周旭升,李圣怡,戴一帆.光学表面中频误差的控制方法———确定区域修正法[J].光学精密工程,2007,15(11):1668-1673.[6] 潘日,王振中,王春锦.自由曲面光学元件气囊抛光进动运动控制技术[J].机械工程学报,2013,49(3):186-193.[7] 谢银辉.智能抛光方法去除特性及控制技术研究[D].厦门:厦门大学,2014.[8] 虎治勤.普里姆(Prim)算法的实现与分析[J].电脑知识与技术,2011,7(27):6711-6712.The Effect of Polishing Paths on the Mid-frequency Errorof Optical ComponentsLIN Gui-dan,BI Guo*,HU Chen-lin,JIANG Tao,PENG Yun-feng(School of Physics and Mechanical &Electrical Engineering,Xiamen University,Xiamen 361005,China)Abstract:In order to find an effective polishing path to eliminate the mid-frequency errors(MFE)of optical components,the papercarried out two group of experiments.The first set of bonnet uniform polishing experiments on the quartz glasses used single preces-sion of Z-raster path and spiral path.Then the mid-frequency errors obtained after processing surfaces of the optical specimens wereanalyzed.The second set of bonnet uniform polishing experiments on the quartz glasses were firstly conducted using single precessionof Z-raster path,and then the quartz glasses were polished by the path based on improving Prim algorithm.Finally we verify the ex-cellent improvements of the path based on improving Prim algorithm by analyzing the mid-frequency errors obtained after processingsurfaces of the optical specimens.Key words:polishing path;optical component;mid-frequency error·582·。