等离子体提纯太阳能级硅材料的工艺进展
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等离子体的奥秘:等离子体物理学的研究进展与应用等离子体(Plasma)是一种物态,介于气体和固体之间。
它是由高温、高能量状态下的气体分子或原子通过电离形成的,具有部分或全部自由电子和正离子的高度电离气体。
近年来,等离子体物理学作为一门新兴学科,得到了广泛的研究与应用。
本文将介绍等离子体物理学的研究进展及其在不同领域的应用。
一、等离子体物理学的研究进展1. 等离子体的基本特性等离子体由于其独特的构成和特性,具有许多引人注目的物理特点。
首先,等离子体具有高度电离的特点,自由电子和离子的存在使其具有极强的电导性和导热性。
其次,等离子体展示出等离子体波、粒子束和辐射等非线性效应,这些效应对等离子体物理研究和应用具有重要意义。
此外,等离子体还具有高能量和高强度激发的特点,能够在强电场或者强磁场中显示出复杂的行为。
2. 等离子体物理学的研究方法等离子体物理学研究方法的发展与技术进步密切相关。
目前,常用的等离子体研究方法主要包括实验研究、数值模拟和理论计算。
实验研究通过使用等离子体设备和仪器进行观测和测量,能够获得等离子体的一些基本特性和行为。
数值模拟则利用计算机模拟等离子体的行为和模式,通过建立数学模型、求解方程和处理数据,可以预测和解释等离子体的各种现象和性质。
理论计算则基于等离子体物理学的基本理论和公式,通过推导和计算等离子体的基本性质和行为。
二、等离子体物理学在科学研究中的应用1. 物质结构研究等离子体物理学在材料科学和物质结构研究领域有着广泛的应用。
通过等离子体处理和等离子体改性技术,可以改变材料的表面和体内结构,使其具有特殊的功能和性能。
另外,等离子体还可用于纳米材料的制备和合成,通过等离子体处理能够控制纳米粒子的粒径和形貌,从而实现对材料性能的调控。
2. 能源开发和利用等离子体物理学在能源领域也具有重要应用价值。
等离子体作为高温、高能量状态下的气体,为核聚变能源的开发提供了重要的条件。
通过控制和稳定等离子体,可以实现核聚变反应的连续进行,从而获得源源不断的清洁能源。
太阳能用多晶硅料技术概述及技术进展作者:王敬蕊陈锐蔡晓晨蒋碧蕾来源:《电子世界》2012年第21期【摘要】介绍了制备太阳能多晶硅的几种工艺方法原理。
简述了近几年多晶硅的技术进展。
分析了我国多晶硅生产优势和存在的问题.并对我国发展多晶硅产业给出建议。
【关键词】多晶硅;金属硅;改良西门子法;成本降低一、多晶硅技术概述多晶硅按纯度分类可以分为太阳能级和电子级。
太阳能级硅(SG)的纯度介于冶金级硅与电子级硅之间.一般认为含Si在99.99%~99.9999%(4~6个9)。
电子级硅(EG)一般要求含Si99.9999%以上。
超高纯达到99.9999999%~99.999999999%(9~11个9)。
太阳能级多晶硅是生产太阳能光伏电池的主要原料.电子级多晶硅主要用于半导体工业及电子信息产业.是制造单晶硅的主要原料,可做各种晶体管、整流二极管、可控硅、集成电路、电子计算机芯片以及红外探测器等[1,2].太阳能用多晶硅的原料来自于提纯后的金属硅。
多晶硅硅料是是硅材料产业中最主要的前端产业链,多晶硅的成本占每瓦电池组件总成本的30%以上,是光伏行业最主要的原材料。
多晶硅是经由“硅石—金属硅—多晶硅”等步骤制备的,其实质是一个化学提纯Si单质的过程,见图1。
我国具有丰富的硅石资源。
金属硅是由硅石与碳质还原剂为原料生产的,其纯度可达达到99.99%。
金属硅属于高耗能产品,而且环境污染也比较大。
长期以来,我国是全球最大的金属硅生产国和出口国。
我国多晶硅产量超过全球总需求量的一半以上。
2011年我国金属硅总产量136万吨,同比增长18.3%,出口量为75万吨.比2010年增长了7.1%。
[3]从金属硅制备多晶硅材料目前采用的主要有4种工艺,分别是:改良西门子法、硅烷法、循环流化床法、物理法。
这四种技术中,改良西门子法技术最成熟,已获大规模应用,目前全球多晶硅产量中有80%采取改良西门子法的生产路线。
(1)改良西门子法——闭环式三氯氢硅氢还原法改良西门子法是用氯和氢合成氯化氢(或外购氯化氢),氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅,然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯,提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅。
硅的等离子体频率全文共四篇示例,供读者参考第一篇示例:硅是一种常见的半导体材料,广泛应用于电子器件中。
硅的等离子体频率是指硅中的电子和离子在外加电场的作用下,发生共振激发的频率。
硅的等离子体频率与其能带结构、电子密度、离子束传播速度等因素密切相关,对硅材料的性能起着重要作用。
硅材料的电子结构和等离子体频率密切相关。
硅是四族元素,其原子结构为1s2 2s2 2p6 3s2 3p2,共有14个电子。
在晶格中,硅原子通过共价键结合形成晶格结构,将其电子能带划分为导带和价带。
在外加电场的作用下,硅中的电子可以被激发到导带中,形成自由载流子,同时离子也会受到电场力的作用而发生振动。
当外加电场频率与硅中电子和离子的共振频率相等时,硅的等离子体频率就发生了。
硅材料的等离子体频率不仅受到电子结构的影响,还受到电子密度的影响。
硅是一种半导体材料,其导带和价带之间的能隙相对较大,导致硅的电子密度较低。
在外加电场作用下,硅中的自由载流子受到电场力的加速作用,导致等离子体频率的增加。
硅材料的电子和离子相互作用也会影响其等离子体频率,特别是在高温下,硅中的离子振动频率会增加,从而影响了等离子体频率。
硅材料的等离子体频率还受到离子束传播速度的影响。
在外加电场的作用下,硅中的离子会沿着电场方向传播,形成离子束。
离子束的传播速度取决于硅中离子的质量和电场强度。
当电场强度增加时,硅中的离子束传播速度也会增加,导致等离子体频率的增加。
在设计硅基器件时,需要考虑到硅材料的等离子体频率,以确保器件的性能。
第二篇示例:硅是一种常见的半导体材料,具有广泛的应用领域,包括电子器件、光学器件、太阳能电池等。
硅的等离子体频率是指硅中自由载流子与光子之间的相互作用频率,是研究硅材料光电性质的重要参数之一。
在硅的等离子体频率研究中,通常通过激光光束照射硅晶体,观察其等离子体共振的特征。
硅材料的等离子体频率与硅晶体中载流子的密度密切相关。
当激光光束照射硅晶体时,激发晶体中的自由载流子,在外加电场的作用下,这些自由载流子会发生受振动,并相应地与光子相互作用。
冶金提纯法制备太阳能级多晶硅研究一、本文概述随着全球能源需求的日益增长和对可再生能源的迫切需求,太阳能作为一种清洁、可再生的能源形式,正受到越来越多的关注。
太阳能级多晶硅作为太阳能电池的主要原料,其质量对太阳能电池的光电转换效率具有决定性影响。
研究和开发高效、环保的太阳能级多晶硅制备技术,对于推动太阳能产业的发展具有重要意义。
本文旨在探讨冶金提纯法制备太阳能级多晶硅的研究。
我们将简要介绍太阳能级多晶硅的制备原理及其在太阳能电池中的应用。
我们将重点阐述冶金提纯法的原理、工艺流程及其优点,同时分析该方法在制备太阳能级多晶硅中的适用性。
我们将通过实验数据,详细分析冶金提纯法制备太阳能级多晶硅的效果,包括纯度、晶体结构、光电性能等方面的评价。
我们将对冶金提纯法制备太阳能级多晶硅的前景进行展望,并提出可能的改进方向和建议。
通过本文的研究,我们期望能够为太阳能级多晶硅的制备提供一种新的、高效的方法,为推动太阳能产业的发展做出贡献。
二、太阳能级多晶硅的制备方法与比较冶金法提纯:冶金法提纯多晶硅主要包括硅矿的破碎、熔炼、精炼等步骤。
通过高温熔炼,硅矿石中的杂质如铁、铝、钙等被氧化去除,得到较为纯净的硅液。
随后,硅液经过进一步的精炼处理,如定向凝固、区域熔炼等,以去除残余杂质,最终得到太阳能级多晶硅。
冶金法提纯具有原料丰富、成本低廉的优点,但其提纯效率相对较低,且对环境污染较大。
化学气相沉积法(CVD):CVD法是通过在反应器中使含硅气体在高温下分解,生成硅沉积在基底材料上,再经过退火、切割等工艺得到多晶硅。
该方法提纯效率高,制备的多晶硅纯度高,适用于大规模生产。
CVD法所需的设备投资大,运行成本高,且制备过程中产生的废气处理难度较大。
硅烷法:硅烷法是通过硅烷气体的热分解制备多晶硅。
硅烷气体可通过氢化硅烷化反应制备,其纯度较高。
硅烷法制备的多晶硅纯度高,且制备过程相对简单。
硅烷气体具有毒性,储存和运输过程中需采取严格的安全措施,限制了其在大规模生产中的应用。
等离子蒸发冷凝法制备纳米硅概述纳米硅是一种在纳米尺度下具有优异性能的材料,具有广泛的应用前景。
等离子蒸发冷凝法是一种制备纳米硅的有效方法,本文将对该方法的原理、制备步骤以及优点进行全面、详细、完整的探讨。
原理等离子蒸发冷凝法是利用等离子体产生和控制蒸汽,然后通过冷凝使其形成纳米尺度的固体颗粒的方法。
该方法的原理主要包括下面几个步骤:1.等离子体产生:通过电离气体产生等离子体。
等离子体可以通过直接电离、辉光放电等方式产生。
2.物质蒸发:在等离子体的作用下,待制备的材料在高温环境下蒸发。
蒸发的材料可以是固态、液态或气态。
3.冷凝过程:蒸发的材料在冷凝器中与冷却剂接触,形成纳米硅颗粒。
4.收集:纳米硅颗粒通过收集器进行收集。
制备步骤等离子蒸发冷凝法制备纳米硅的步骤如下:1.设计实验条件:确定等离子体产生的方式、蒸发材料和冷凝剂的选择,以及制备设备的设计。
2.等离子体产生:根据设计条件,使用适当的方法产生等离子体。
可以选择辉光放电等离子体源或直接电离等方法。
3.物质蒸发:将待制备的材料放置在等离子体源附近,通过加热等途径使材料蒸发。
蒸发过程中需要控制温度、气压等参数。
4.冷凝过程:在冷却器中使用冷却剂,接触蒸发的材料,使其冷凝成纳米硅颗粒。
冷凝过程中需要控制冷凝剂的温度和流速等参数。
5.收集:通过收集器收集冷凝好的纳米硅颗粒。
可以使用静电沉积、滤膜等方法进行收集。
6.表征:对制备得到的纳米硅颗粒进行表征,如粒径分析、形貌观察、晶体结构分析等。
优点等离子蒸发冷凝法制备纳米硅具有以下优点:1.高纯度:等离子蒸发冷凝法可以通过精确控制物质的蒸发和冷凝过程,得到高纯度的纳米硅。
2.可控性:该方法可以调节等离子体参数、蒸发材料和冷凝剂等,以控制纳米硅颗粒的形貌、尺寸和分布。
3.高效性:等离子蒸发冷凝法可以在短时间内制备大量的纳米硅颗粒,具有较高的制备效率。
4.无需表面修饰:制备的纳米硅颗粒通常具有较好的分散性和稳定性,无需进行额外的表面修饰。
PECVD氮化硅薄膜性质及工艺研究一、引言随着半导体、光电子、微电子等领域的快速发展,对薄膜材料的要求也越来越高。
PECVD(等离子体增强化学气相沉积)氮化硅薄膜因其优异的性能,被广泛应用于集成电路、太阳能电池、显示器件等领域。
本文将对PECVD氮化硅薄膜的性质及工艺进行研究和探讨。
1.制备工艺流程PECVD氮化硅薄膜是通过将硅源气体(如二硅鳞片)和氨气或氮气等高能离子轰击的氮源气体放入高频电场中,通过等离子体的作用在衬底表面生成一层氮化硅薄膜。
制备步骤(1)清洗衬底表面,去除油污与氧化物;(2)将清洁后的衬底放入PECVD反应室中,抽真空至一定压力;(3)加入硅源气体和氮源气体,碰撞产生等离子体,反应生成氮化硅薄膜;(4)控制沉积时间和沉积温度,最终得到所需的氮化硅薄膜。
2.影响薄膜性质的工艺参数制备PECVD氮化硅薄膜时,工艺参数的设置对薄膜的性质有着重要的影响。
(1)气体流量:硅源气体和氮源气体的流量比例会影响薄膜的成分,氮气流量过大会导致薄膜中氮含量过高,影响其性能。
(2)反应压力:反应压力的大小会影响气体的碰撞频率和离子能量,进而影响薄膜的致密性和成核情况。
(3)沉积温度:温度对薄膜生长速率和结晶度有着重要的影响,需根据具体应用来选择合适的温度。
(4)衬底表面处理:正确选择和处理衬底表面可以改善薄膜的附着力和致密性。
1.力学性能氮化硅薄膜的力学性能是其在实际应用中的一个重要指标。
通常通过硬度和弹性模量来评价薄膜的力学性能。
研究表明,PECVD氮化硅薄膜的硬度高、弹性模量大,具有较好的耐磨损性和抗划伤性能,适合用于硬质涂层材料。
2.光学性能PECVD氮化硅薄膜在光学性能方面表现出色,具有良好的透明性和抗反射性能。
它被广泛应用于太阳能电池、显示器件等领域。
3.电学性能氮化硅薄膜在电学性能方面也有着出色的表现,具有较高的绝缘电阻率和较低的介电常数。
这些性能使其成为集成电路中绝缘材料的理想选择。
等离子体刻蚀提纯冶金硅研究
尹盛;曹伯承;赵亮;王敬义
【期刊名称】《功能材料》
【年(卷),期】2009(040)003
【摘要】通过自行设计的冷等离子体粉粒纯化系统,将硅粉撒进辉光放电区,以Ar 气为反应气体,利用鞘层区域辉光放电的冷等离子体对硅粉料的作用,进行一系列的处理后,硅粉表面形貌平整度明显提高,纯度从98.75 9,6提高到99.56%.在此基础上,设计射频感应放电等离子体的振动倾斜反应室,经实验,将硅粉纯度提高到99.96 9,6,接近太阳级硅的要求,也为该研究未来的发展提供了新的思路和理论参考.
【总页数】3页(P400-402)
【作者】尹盛;曹伯承;赵亮;王敬义
【作者单位】华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074
【正文语种】中文
【中图分类】TN304.051
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专利名称:太阳能级硅的制备方法专利类型:发明专利
发明人:吴展平,杜相华,杨晗辉
申请号:CN200610200551.8申请日:20060609
公开号:CN101085678A
公开日:
20071212
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明提供了一种太阳能级硅的制备方法,该方法采用金属硅或金属硅粉为原材料,通过化学除杂与物理冶炼除杂相结合的方法,将硅中的各杂质元素含量降到1ppm以下,特别是磷
≤0.5ppm,B≤0.3ppm,电阻率≥2Ωcm,从而制得低成本的高纯硅。
与现有技术相比,本发明采用化学处理和物理处理相结合,能更有效地降低硅里面的杂质元素;能耗较低,设备投资少,建设周期短,过程的环保容易克服,相同规模的投资比较少;与纯物理熔炼方法比较,更容易降低B、P的含量,所得产品纯度高。
申请人:贵阳高新阳光科技有限公司
地址:550008 贵州省贵阳市高新区高新技术创业服务中心
国籍:CN
代理机构:贵阳中新专利商标事务所
代理人:郭防
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电感耦合等离子体原子发射光谱法测定太阳能级硅中硼孙东亚;何丽雯【期刊名称】《冶金分析》【年(卷),期】2014(034)010【摘要】研究了用电感耦合等离子体原子发射光谱仪(ICP-AES)测定太阳能级硅(SOG-Si)中硼的方法.试验发现,在110℃左右的温度下,用氢氟酸和硝酸的混合溶液作溶剂,试样在PFA烧杯中能较快溶解,且在溶样时添加0.3 mL甘露醇,可有效抑制硼的损失.在1000级洁净室中,用金属氧化物半导体(MOS)级试剂溶解电子级硅(EG-Si),可控制样品空白中硼元素含量小于1 μg/L,并能抑制部分基体效应.在仪器最佳工作状态下,选取B 182.641 nm作为分析谱线,方法的检出限为18.10 μg/L,回收率在92%~108%之间,相对标准偏差(RSD,n=11)不大于7.2%.样品中硼的测定结果与电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)法及辉光放电质谱(GDMS)法进行了比对,结果吻合.【总页数】5页(P42-46)【作者】孙东亚;何丽雯【作者单位】厦门理工学院材料科学与工程学院,福建厦门361024;华侨大学材料科学与工程学院,福建厦门361021【正文语种】中文【中图分类】O657.31【相关文献】1.电感耦合等离子体原子发射光谱法\r测定硼钛复合材料中硼 [J], 段双;朱智;金小成;高鹏2.电感耦合等离子体原子发射光谱法测定高镁中包干式料中硼 [J], 郭圣洁; 任玲玲; 葛晶晶; 谭胜楠; 戚振南; 杨晓倩3.电感耦合等离子体原子发射光谱法测定镍硼合金中硼 [J], 安中庆; 方海燕; 范兴祥; 周娅; 赵德平; 刘英波4.固硼灰化-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定高纯人造石墨中硼 [J], 周智勇;肖刘萍;涂莉娟5.电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定硼铁、硼线中硼、磷、铝、硅 [J], 肖星;谭卉;赵小元因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
收稿日期:2009201201; 修订日期:2009201225基金项目:国家自然科学基金重点项目((50674018)作者简介:罗大伟(19832 ),内蒙古通辽人,博士.研究方向:太阳能级多晶硅的制备与研究.Em ail :luodlut @Vol.30No.7J ul.2009铸造技术FOUNDR Y TECHNOLO GY・今日铸造 Today ’s Foundry ・等离子体提纯太阳能级硅材料的工艺进展罗大伟,刘 宁,卢一平,李廷举,张国梁(大连理工大学材料科学与工程学院,辽宁大连116024)摘要:随着等离子体的发展,利用等离子体的高化学活性进行合金的精炼日益受到重视,等离子体熔炼被广泛应用在材料加工、金属材料提纯精炼等领域。
主要介绍了等离子体在制备太阳能级硅方面的应用,以及几种典型的等离子体提纯工艺。
关键词:等离子体;太阳能级硅;提纯;研究进展中图分类号:TM914 文献标识码:A 文章编号:100028365(2009)0720945204Te c h ni c s Pr o gr e s s o n t he Purific a ti o nof S ola r Gr a de (S o G )Sili c o n b y Pl a s m aL U O Da 2w ei ,L IU Ning ,L U Yi 2ping ,L I Ting 2ju ,ZHANG G uo 2liang(School of Materials Science and E ngineering ,Dalian U niversity of T echnology ,Dalian 116024,China)Abs t rac t :Using the high chemistry activity of plasma to refining alloy gets more and morerecognition increasingly as well as the development of the plasma.The plasma melting is widely applied in the material proce ssing and the purification of metal material and so on .This paper mainly introduce s the application of plasma in the preparation of solar grade silicon and several typical plasma purification proce sse s.Ke y w ords :Plasma ;Solar grade silicon ;Purification ;Re search progre ss 利用硅太阳电池来进行大规模的光伏能量转换的首要条件就是大幅度的降低太阳电池的制造成本。
因此,开发生产廉价的太阳能级硅的新工艺成为目前研究的热点。
许多不同的工艺[1]已经被提出用来生产低成本的硅供给原料,在这些工艺中,通过精练冶金级硅来生产太阳能级硅,被认为是一种比较有前途的方法,这个工艺过程中主要的技术问题是如何有效的去除B 和P ,其含量范围为2×10-3%~4×10-3%,因为这两种杂质是太阳能级硅的搀杂元素,它们的含量需要控制在低于1×10-4%。
然而,由于它们的分凝系数非常接近于1,这两种元素通过定向凝固或者区域熔炼的技术是很难去除的。
由于以上原因,等离子体提纯技术被应用到这个工艺中来,因为等离子体可以使硅液表面的杂质元素气化,可以对硅料进行精炼[2]。
等离子炉的结构见图1[3]。
等离子枪是等离子炉的关键部件,其结构见图2[4]。
图1 等离子体熔炼炉示意图Fig.1 Schematic representation of the plasma meltingf urnace图2 等离子枪Fig.2 Plasma torch・549・FOUNDR Y TECHNOLO GY Vol.30No.7J ul.20091 等离子体技术的发展与应用随着等离子体化学的发展,利用等离子体的高化学活性进行合金的精炼日益受到重视。
利用等离子体中的活性反应粒子(如氯、氢、氧等原子或离子)与硅粉表面的杂质发生气2固反应,生成气态物质后被真空系统抽走,从而达到将硅粉提纯的目的。
它具有工艺简单、能耗低、效率高的特点。
特别是它可以把硼、磷等非金属杂质去掉90%以上,这是湿法冶金难以做到的。
许多研究者对于等离子体提纯冶金级硅开展了广泛的研究:Alemany 等人[5~6]在利用电磁感应H 22O 2等离子体处理硅液时发现有明显的精炼效应,通过热力学计算和实验结果分析,证实硅中的杂质元素B 主要是以BO H 的形态挥发脱除。
还有研究者[7~9]发现,Ar 2HCl 低温等离子体对置于阴极的硅粉有显著的提纯效果,他们的解释是等离子体中产生的各种活性粒子(H +、H 、Cl +、Cl 等)与硅粉中的杂质原子发生化学反应生成气态化合物脱附而进入气相。
日本的Kawasaki Steel 公司在日本N EDO 的资助下采用电子束和等离子体结合定向凝固,最早用冶金法生产出杂质浓度达到了太阳能级硅要求的多晶硅锭,电阻系数保持0.5~1.5Ω・cm 。
等离子弧热量集中,炉料加热不均匀,结合电磁搅拌技术,保持液态硅在电磁连铸过程中表面与本体的液体流动与传质[8],吹入H 2和氧气以及水蒸气,让液态硅中的B 形成挥发性的BO H ,可将B 含量从15×10-6降低到2×10-6。
最近报道[10,11]有利用双热源等离子弧加热结合直流电偏移方法,由于蒸发边缘层的改性及电化学反应速率的改变,电压阳极偏移改变等离子气体离子流动的浓度,有利于阳离子(Fe 、Ca 、Al 、Cu )浸出,减少等离子弧处理时间。
冉祎等[12]利用等离子体技术,建立了以硅的氯化物为原料的一步法生产多晶硅工艺。
尾气分析结果表明SiCl 4的单程转化率超过70%,其中多晶硅的选择性达到60%,其余为Si HCl 3、Si H 2Cl 2等副产品。
产物测试结果表明,与纯度为7个9的多晶硅标样相比,实验产物达到了太阳能级,此方法为低成本生产太阳能级多晶硅提供了一种新的途径。
2 等离子体提纯典型工艺2.1 冷等离子体结合湿法冶金工艺冷等离子体提纯与湿法冶金是制造太阳级硅材料的两种重要方法。
它们各有优缺点,使之结合起来则可以取长补短,大大提高硅材料的提纯效果,先用工业纯酸对冶金硅粉进行预处理,去掉大部分金属杂质,以减少等离子体冶炼的时间,将得到的3.5mol/L 硅粉放入如图3所示的反应室中[9]。
氩与氯化氢混合气体通过阳极直接吹到硅粉薄层上,在辉光放电情况下形成氩、氢、氯的离子及各种中性的活性粒子,它们与置于阴极上的硅粉相互作用,进而起到提纯作用。
阴极底部用电炉加热,以提高化学反应速率及杂质的扩散速率。
反应后的气体由高速机械泵抽走。
最终得到了5mol/L 级的硅粉,已基本能满足制作太阳电池的要求。
图3 反应室示意图Fig.3 Schematic diagram of the reactor2.2 一步法工艺冉祎等[12]利用等离子体技术,建立了以硅的氯化物为原料的一步法生产多晶硅工艺。
实验是在一个30kW 的等离子体反应器上进行的,实验时的实际功率为16~17kW 。
H 2作为放电气体产生等离子体,同时也作为SiCl 4的还原剂。
再将SiCl 4直接通入反应器,SiCl 4的进料量为0.8L/h 。
在反应器中,氢气首先被等离子体化,并解离为化学活性的原子态,原子氢再与SiCl 4反应逐步生成多晶硅。
实验工艺流程如图4所示[12]。
图4 实验工艺流程图Fig.4 Flow chart of the experiment尾气分析结果表明SiCl 4的单程转化率超过70%,其中多晶硅的选择性达到60%,其余为Si HCl 3、Si H 2Cl 2等副产品。
产物测试结果表明,与纯度为7个9的多晶硅标样的相比,实验产物达到了太阳能级,此方法为低成本生产太阳能级多晶硅提供了一种新的途径。
2.3 Kawasaki Steel 工艺日本Kawasaki Steel 公司在N EDO 的资助下开发了由以下两个阶段4个步骤组成的提纯冶金硅至太阳能级硅工艺技术[13~15],工艺过程如图5所示。
第一阶段,在真空环境下,首先将冶金硅料连续注入带有电子束发生装置的熔化炉内的坩埚中,同时,电子束发射装置发射的高密度电子束使硅熔化,在电子・649・《铸造技术》07/2009 罗大伟等:等离子体提纯太阳能级硅材料的工艺进展图5 N EDO 熔炼提纯工艺示意图Fig.5 Schematic diagram of the N EDO melt 2purificationprocess束和硅熔体液流过程的共同作用下,P 等杂质快速从硅熔体表面蒸发,被真空系统排出炉外,持续进行一段时间处理后,将硅熔体倒入结晶器中,进行第一次定向凝固,去除金属杂质。
对凝固后的硅锭进行机械破碎,使之达到一定粒度,进行清洗,准备进行第二阶段提纯;第二阶段,从第一阶段得到的硅料在高频感应加热器和等离子枪的共同加热下熔化并维持熔融温度,离子枪发射Ar 和等离子体,同时通入掺有一定量水蒸气和氢气的氩气,硅熔体表面B 等杂质不断被氧化成BO 气体挥发出去,将处理后的硅熔体倒入结晶器中,进行第二次定向凝固,进一步去除金属杂质并形成结晶。
实验结果表明,电子束蒸发和等离子氧化能够降低B 、P 杂质浓度到0.1×10-6水平,解决了提纯冶金硅至太阳能级硅的技术难点。
两次定向凝固使金属杂质浓度大大降低,基本达到太阳能级硅的要求。
但电子束、等离子枪装置大大增加了生产成本和设备复杂性,而两次定向凝固工艺使生产效率受到不利影响。
2.4 AR TIST 工艺A R TIST 工艺是一种典型的利用电磁感应等离子技术提纯的工艺[16],金属硅的提纯分为两步,第一步是通过化学清洗、定向凝固、甚至吹气反应,来实现金属硅被提纯成升级的金属硅;第二步利用等离子体电磁感应加热,以含氧的气体作为反应气体,通过和杂质的作用达到去除杂质的目的。
图6显示了等离子体电磁感应提纯的工艺过程[17],从图中可以看出,这个工艺包含几个主要的步骤:升级的金属硅原料首先被等离子体加热成熔体状态,并被放入坩锅;然后利用电磁感应,使坩锅中的硅熔体保持熔体状态;此时利用含有氧气和氢气的混合气体,和熔体硅中的杂质进行化学反应,生成挥发性气体或炉渣,达到去除杂质、提纯金属硅的目的。