激光微加工技术纵览基本原理、实际应用及未来展望

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显而易见,要想获得可靠的微成形加工
质量,则应该提供能量密度口恒定的激光
束。扫描系统所必需的能量密度q为:g=
^K。/d。L(16),或者根据P/K。=砌。厶,=恒
定值=B(17),这就意味着当能量恒定时,
PK。应当也都是恒定的。这对于高速加工形
状复杂的图形尤为重要。如果儿不是恒定
的,而是随着扫描轨迹变化,那么它可能满足
流热交换;
一热传导。
还应考虑下列现象:
一应该有充足的气压来吹走孔中的熔化
金属:
一腐蚀物对入射光束的影响。
图2 激光微成形简图
影响激光微成形质量的主要因素: 在每一个实际的激光微成形过程中,液 态阶段的绝大部分都保留在激光脉冲到来之
专题聚焦●
后的被照射区。 一般来说,大量液体的形成及难以完全
从表面清除都是极其不利并且难以控制的现 象,正是由予这些现象导致了激光微成形酶 效率和质量大大降低。
波长A应该位于材料的强吸光率范围
之内,这取决于材料的光学参数(民A=1一
R,艿=1/d)。
脉冲重复频率斥它对微成形生产效率
及选择何种工艺加工方法有着直接的影响。
比较各种参数,对于Nd:YAG激光器
(丁一10。s,.厂~104Hz),铜蒸气激光器(丁~
10—8s,/一1Q4Hz),r~10—8s,/一103Hz的准分
为了比较使厢连续波激光和脉冲激光用 于微成形所必需的能量,考虑到要改变形状, 那就意味着要把材料加热到蒸发温度纛。
对予与连续波激光相对应的能量Pc。, 应该麸稳态温度起始点氛算起
豇=qr。/南
(7)
式中:强一光斑半径,磊一热传导系数,
此时:
芦。=万蕊爻/蠢
《8)
对于与能量R相对应的脉冲激光,应
该从脉冲状态的起始点瀑度墨算起。
决于光圈损失和光学元器件(菲涅耳反射和 残余吸收)。
在对精度的要求中,应当强调: ·尽量使光斑尺寸最小; ·尽量形成一个具有给定形状的轮廓鲜 明的作用区域; ·尽量使受照射区边缘的粗糙程度降到 最低。 就工作面而言,最为重要的问题是: ·如何利用光学机械扫描系统及光学投 影系统覆盖整个工作面; ·使用最简便的方法获得能够接受的精 度及生产率。 用于激光微成形的激光束在空间的形成 方式主要有两种: 1)工作在聚焦面(图3中的A面); 2)工作在投影面(图3中的B面); 两种工作方式的不同之ห้องสมุดไป่ตู้不仅在于光斑 尺寸不同,还在于能量分布也不同。在任何 情况下,聚焦面上的光斑尺寸由光的强度决 定,强度越大,光斑尺寸越小。 投影面B的情形正好与此相反,投影面 B(图3)是一个菲涅耳衍射区(近场),其上的 能量分布与源平面上的能量分布一致,此时 光斑可以是任意形状(通过相应的遮光板获 得)。
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0麓E lN两R鹾文露◇楚慕o。l 1.艺夺§l
◆专题聚焦
<<尸c。o
脉冲持续时间7-限定了下面这些过程
量:
一脉冲能量起始点口。。(公式9,10) 一液体数量‰(公式5);
一反气压值Pv(公式6);
一热机械压力值Ftm一√《近似);
一蒸气对入射光束所起到的阻挡影响;
一起始能量密度的稳定性取决于照射区
%的增加而线性增长:
危:%r:}.r
(4)

一孔径不增加:d=cfo=常数; 一无液态阶段,只有气体生成物; 一可达理想精度;
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0ME 万I方NF数ORM据A’Ⅱ0N No.1 1.200l
一产品质量优良; 二维模型
一维模型不能用来描述孔增长的动力学 过程,因为当孔深^增加到与光斑尺寸r0大 小相当时,孔壁对孔的形成动力的影响不应 被忽略。
尺寸大小。
注:
·连续波激光器有效作用时间为:
7-=玩/以。
(13)
式中:cf0一焦点直径,‰一扫描速度;
·在任何情况下都应满足公式9和lO。
激光能量应该能够提供足量优质的能量
密度q-一位于蒸发起始点g山。。n和吸收起始
点之间,通常取g一(2~3)g山础。 计算表明,通常用于微成形加工的激光
能量p=1kW是必要的。
从以上讨论中可知,为了提高激光微成 形加工的质量和效率,使用易于被材料吸收 的,高频短脉冲激光束和性能优越的扫描投 影光学系统是必要的。但是选取哪种系统要 取决于操作类型。另外,加工成本在很大程度 上对采取何种方法有着一定的限制。
3 激光微成形加工的实际应用
图4 A一透镜焦面处A型试样表面,B一透镜焦面 处的B型试样表面中心点。
图3 激光源远心模型(多模运转)。焦斑直径也= 0【F,焦深Z=2凼F/D(14),投影直径D。,=D卢(15) (口一光学系统放大倍数,届=F/Zrn)。
对于焦斑而言,提出这样的问题是有意 义的:能获得的最小光斑尺寸是多少呢?有两 种可行的办法来克服衍射造成的束缚;1.在 大范围内,d。i。不依赖于光学现象,而受d0 (I)<入区域内物理条件的限制。当在薄膜上 打孔时,dmi。兰詈÷^,(^为膜厚度),这 取决于薄膜对基体的附着力;2.在小范围内 进行光刻,不使用传统的光学原则及透镜,而 使用纳米级的探针,将其放置在离表面几纳 米距离处。
1 概述
激光微加工技术主要应用于以下三个重 要的领域:
微电子学(ME)一薄膜的局部沉积及去 除,即用激光修整、激光光刻、微机械加工,以 及退火、局部掺杂及焊接等。
微机械学(MM)一在设备制造业、汽车以 及航空精密制造业和各种微细加工业中可用 激光进行切割、钻孔、打标、雕刻、划线、热渗 透、焊接、硬化处理等。
图1 激光微成形产品
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◆专题聚焦
激光在这些领域中的应用存在着一个共 同的问题,那就是如何提高激光微成形加工 的精度和质量以及加工效率。
2 基本原理
2.1 激光微成形的物理模型
主要步骤:
一在光穿透深度8=上,10-5—1旷6sm 的前提下,激光辐射金属的吸收量符合下式:
瓦=2Aq ̄/盯/而√牝
(9)
式中:A一光吸收率, 此时:只=艽|i}r2咒√趸/2A√8r (10)
平均能量耳=础r饵拣r/2矗石
(11) 式中:.,一脉冲重复频率。
下式定义为:只/p。=r毋/、/nr(12) 取f=lms,,=lk糙z,ro=100p,a=0.1cm/s, √聪r=100弘,70/ ̄/口r并l,丘黧10一。所以 不管&,岱和r如霭合理搭配,都有耳
液体在结晶之前的重新分布对最终的成
形起决定性作用。这种重新分布的结果使得
匿纯赡薛表谣形状与出激光寨几何形获、气 化动力以及激光脉冲结束后部分液态材料的 流俸动力决定静表嚣形状差异缀大。
液体增多的主要原因:
一枣予髓着孔深的增热光束逐滋发散, 光通量密度逐渐减小;
一在激光脉冲逐渐溃失时,能量的缓慢 减小键使脉冲过后表面的液态残余物体积增
下面仅就激光微成形过程加以讨论。微 成形过程包括微电子学领域的光刻、微机械 学领域的激光精密切割以及包括激光抛光
万方数据
(不考虑退火、硬化、焊接这样的热过程)在内 的微光学领域的激光微型结构化。
激光微成形的基本物理过程: 一适于各种材料的蒸发和烧蚀; 一加热(通过机械作用实现)——仅适于 玻璃元件的微成形; —适于微电子元件用的薄膜或薄层的蚀 刻和其他过程; 一三维叠层——适于光聚合物,陶瓷(粉 末)合成物和切纸。 鉴于激光烧蚀的加工过程是目前最流行 的,为此本文讨论了微成形过程。 虽然激光在微电子学、微机械学、微光学 领域中的应用有着一些外在的差异,即不同 的材料(薄膜、金属、玻璃等)和不同的激光束 (不同波长和能量),但其本质都相同。由于吸 收能量多的部分最终将被烧蚀掉,所以热过 程(熔化和蒸发)将限定最终的形状改变(如 图1所示)。
子激光器好像更为可取,具有更为广泛的应
用。但有时对诸如玻璃陶瓷这样的材料而
言,二氧化碳激光器应作为首选。
2.3 对光学系统的要求
任何一种用于激光微成形加工的光学系
统都应满足下列三组基本条件:
就能量方面而言。光学系统应该:
·能够提供足够大的光强;
·最大限度地利用激光发射能量,这取
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对物理模型进行讨论所褥出的结论: 1.限制激光微成形质避的主鬻因素是 菠态形貌;
2.出现液态形貌的一般原因是由于材 料的熔化。可用一个尺寸来衡量,该尺寸被
近似估计为:
矗~ ̄/盯
(5)
式孛:盆一热扩散系数。 3.使液体移动的最关键原因是由于存 在反冲气压魏
。圭鬈/s:警~罟
‘6)
万方数据
该式中:凡一反压 .s一光斑面积
就工作面而言,有两种非常流行的系统
一扫描系统和投影系统。图4清晰地表明了 A型和B型扫描系统在精度、工作面尺寸大 小和其他部分参数方面的显著差异。
专题聚焦..
尺寸正好矛盾。 从图3中能清晰地观察到投影技术的基
本原理。该系统的优点首先在于工作精度高, 其次是适于具有复杂表面形状的工件。
有时最好的办法是使用扫描一投影技 术。
下式:
P=召亿f£J
(17)
所以,仅当脉冲发生期间才能满足条件
(17),则意味着恒定的激光能量密度及可靠
的激光微成形质量。
B型扫描系统受到额外条件的限制,可
从图中明显看出,增加£,减小d与减小光斑
万方数据
3.1 微电子学 激光技术在微电子学领域有着极为广泛 的应用: 一激光光刻包括掩模修整、光掩模形貌 校正、掩模产生、集成电路制造和微打标等。 一电子元件的激光微调,诸如电阻器、石 英谐振器、过滤器、薄膜线路的功能微调等。 薄膜的激光沉积; —信息记录,如模拟和数字信息; 一激光退火,合金化及半导体掺杂; 一微焊接、钻孔、切割、划线等; 一激光局部热化学、光化学加工,如化学 汽相沉积,无掩模成形等。 在此仅就在光刻过程中出现的问题和解 决办法加以讨论。为了减少或消除在薄膜上 进行光刻时出现的连续的图形扭曲现象,用 文中第二部分给出的解决办法完全能够克 服。 3.2 微机械学 该部分主要介绍一些微型机械零件的加 工过程,如切割、钻孔、热渗透、打标、雕刻、焊 接和硬化等。 得到高质量的激光精密切割成品是相当
微光学(MO)一利用诸如微压型、打磨抛 光等激光表面处理来加工多种微型光学元 件,也可通过诸如激光填充多孔玻璃,玻璃陶 瓷的非晶化来改变组织结构,然后,通过调和 外部机械力,再在软化阶段依靠等离子体辅 助进行微成形来加工微光学元件。
激光在上述领域的应用推动了它在许多 新兴的工程方面的应用,例如:信息、通讯、医 药、微型机器人和其他一些集光、电、机械为 一体的微型系统。
孔深^的增加可通过公式(4)来描述, 但计算孔径d的改变量却相当复杂,这是由 影响孔壁的加热和破裂的诸多因素相互作用 所致。
这首先包括由于材料的熔化而产生的液 态外貌,这种现象发生于表面蒸发温度兀和 熔化温度%之间。
其他一些影响这个过程的主要因素有: (如图2)
一气体凝结物; 一由于光束发散使孔壁直接吸收光能; 一由柱状物引起的光散射; 一发生在蒸气喷口孔壁之间的辐射和对
m一蒸气质量 形一蒸气运动速度
4.为产生最少的液相提供条件,优化激 光寒质量是必要的:
一激光能量特性取决于激光电源参数; 一空间特性取决予激光束秘光学系统参
数;
5.最容易达蓟质量要求静方法魁提供 一维模型工作条件。
2。2对激光源的要求
哪一种激光模式更好,连续波的还是脉 冲重复的?
从能量损耗的观点出发,脉冲重复激光 模式比连续波要好褥多。
g(戈)=口o(1一R)e一“;
一将材料加热到熔点咒; 一在吸收熔化潜热厶后熔化; 一加热到蒸发点L=死l,叩。; 一在吸收蒸发潜热厶后蒸发(通常是从 液态开始的); 一以速度%在材料内部蒸发; 一维蒸发模型 蒸发所需能量(忽略热传导)E为: E=力[pc死+厶I+pc(n一瓦)+厶】 (1) 该式中力为热影响区体积,其值为:
加;
一额外的连续作用时间越长,熔化材料 的体积越大,因而孔的尺寸也越大,丽且切割 宽度也随之增加。除此之外,长时闽的连续
工作逐导致形成一个产生氧化物并发生结构 改变的大区域。在此区域里,由予热影响鼷 的加深使孔的表面出现缺陷。
警致徽成形精度不高的其谴原因还有: 一由于激光器模式特征而引起的横向光 束强度分布不均匀; 一光斑边缘模糊不清。
n=h·s
根据能量密度,式(1)可转化为:
q=hlpcTv+Lm+Lv)/t
t2、
该式中常取:
pcL≈103J/cm3,
厶I.≤103J/cm3,西≥104J/cm3。 蒸发穿透速度%(假设吸收的能量仅用
于蒸发,不计pc兀且厶《厶)为%=q/厶 (3)
一维微成形模型的定性特性: 一孔深^随着持续工作时间T及速度
专题聚焦●
摘要:激光微糖善撼术现导产泛摩承委每括精蜜微威黟在内劫材料加工中。深紫外澉光器在用于芯片 荆造亚的光刺领域中精着极为户--阈的薄馒前景0|一而_|舞秒璐冲激光器为微成形加工开辟了新的发展空 间r。_1与终统的材料加主穷法相I】=■微始加互具有焱多的健点i诸如能处理多种材料,能进行无损分离, 葵有小的燕影响区;最门、钡溅影响凌热变形,:并其有雀._::雄甚至曼雏方向上沿复杂靠断面进行微成形 的可能雀以凌能够实现缺速精确募断j珊通筹缀点蠢_ _