集成电路布图设计登记恢复权利请求书(与集成电路相关文书)
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服务指南编号:33007 被驳回的集成电路布图设计申请复审办事指南发布日期:2020.6发布机构:国家知识产权局一、适用范围本部分适用于被驳回的集成电路布图设计申请复审的办理。
二、项目信息项目名称:被驳回的集成电路布图设计申请复审子项名称:无审批类别:非行政许可审批项目编码:33007三、办理依据《集成电路布图设计保护条例》第十九条,《集成电路布图设计保护条例实施细则》第二十三条、第二十四条、第二十五条、第二十六条、第二十七条。
四、受理机构国家知识产权局专利局五、作出决定机构国家知识产权局专利局六、请求复审条件请求复审的案件应具备下列条件:布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的,可以自收到通知之日起3个月内,向国务院知识产权行政部门请求复审。
七、复审请求材料复审请求人拟向专利局复审和无效审理部提交复审请求文件时,应当提交以下材料:1.向专利局复审和无效审理部请求复审的,应当提交复审请求书,说明理由,必要时还应当附具有关证据。
复审请求书应当符合条例第十九条有关规定。
2.复审请求书应当符合规定的格式,不符合规定格式的,专利局复审和无效审理部应当通知复审请求人在指定期限内补正。
八、复审请求提交方式1.邮寄方式请求人可以通过邮寄的方式提交复审请求文件,邮寄的地址是:北京市海淀区蓟门桥西土城路6号,国家知识产权局集成电路布图设计复审委员会,邮编100088。
2、面交请求人可以到专利局复审和无效审理部受理窗口提交复审请求文件。
专利局复审和无效审理部在国家知识产权局专利局受理大厅设有窗口,地址是北京市海淀区蓟门桥西土城路6号国家知识产权局专利局受理大厅复审无效业务窗口。
九、集成电路布图设计申请复审手续办理流程(一)手续办理1.提交复审请求书缴纳复审费复审请求人在收到驳回决定之日起三个月内提交复审请求书,并在此期限内缴纳复审费。
复审请求人未在上述期限内提交复审请求文件,符合集成电路布图设计保护条例实施细则第九条有关规定的,可以向专利局复审和无效审理部提交恢复权利请求书,请求恢复权利。
国家知识产权局公告第246号——关于执行新的集成电路布图设计保护费收费标准的公告
文章属性
•【制定机关】国家知识产权局
•【公布日期】2017.06.30
•【文号】国家知识产权局公告第246号
•【施行日期】2017.06.30
•【效力等级】部门规范性文件
•【时效性】现行有效
•【主题分类】集成电路布图设计
正文
国家知识产权局公告
第246号
关于执行新的集成电路布图设计保护费收费标准的公告
根据《国家发展改革委财政部关于降低电信网码号资源占用费等部分行政事业性收费标准的通知》(发改价格〔2017〕1186号)精神,国家知识产权局将于2017年7月1日起执行新的集成电路布图设计保护费收费标准,原国家知识产权局第244号公告涉及集成电路布图设计保护费收费标准同时废止。
现将执行标准公告如下:
集成电路布图设计保护费标准(金额单位:人民币元)
(一)布图设计登记费(每件)1000 (二)布图设计登记复审请求费(每件)1000 (三)著录事项变更手续费(每件每次)50 (四)延长期限请求费(每件每次)150
(五)恢复布图设计登记权利请求费(每件)500 (六)非自愿许可使用布图设计请求费(每件)150 (七)非自愿许可使用布图设计支付报酬裁决费(每件)150
国家知识产权局
2017年6月30日。
2023年中级经济师-(新)知识产权专业知识与实务考试备考题库附带答案第1卷一.全考点押密题库(共50题)1.(多项选择题)(每题2.00 分)根据以下材料,回答86-90题2017年,王某向国务院知识产权行政部门申请登记其尚未投入商业利用的集成电路布图设计。
经初步审查,国务院知识产权行政部门认为,王某申请登记的集成电路布图设计不符合《集成电路布图设计保护条例》的有关规定,驳回其申请:王某不服,当即向有关部门提出复审请求。
经复审审查后,有关部门认为王某符合撤销原驳回决定的情形,遂通知原审查部门对该申请予以登记和公告。
2019年,国务院知识产权行政部门发现王某登记的集成电路布图设计存在明显的缺陷,因不能“执行某种电子功能”,判定王某的集成电路布图设计不符合《集成电路布图设计保护条例》的有关规定,遂予以撤销。
王某对撤销集成电路布图设计登记的决定不服,立即向人民法院提起诉讼。
下列属于国务院知识产权行政部门撤销王某经获准登记的集成电路布图设计的法定程序的是( )。
A. 可以通知王某,须予以公告B. 可以通知王某,允许其陈述意见C. 应当通知王某,并予以公告D. 应当通知王某,无须予以公告正确答案:C,2.(单项选择题)(每题 1.00 分)一般而言,商业秘密管理范围不包括( )。
A. 产品及配方B. 公司章程C. 设计图纸D. 战略规划正确答案:B,3.(多项选择题)(每题 2.00 分)商标法体现的基本原则有( )。
A. 强制注册原则B. 注册保护原则C. 申请在先原则D. 诚实信用原则E. 自愿注册原则正确答案:B,C,D,E,4.(多项选择题)(每题 2.00 分)2012年1月9日,甲公司开始在自己生产的计算机键盘上使用“稻花”商标,并一直持续至2020年4月1日。
2018年3月28日,乙公司申请在计算机键盘上注册“稻花”商标。
2019年1月4日,商标局核准注册。
2019年11月20日,乙公司要求甲公司停止使用“稻花”商标。
2023年中级经济师-(新)知识产权专业知识与实务考试备考题库附带答案第1卷一.全考点押密题库(共60题)1.(单项选择题)(每题 1.00 分) 外观设计专利的申请与()所涉及的权利不会存在冲突。
A. 某个知名商品特有的商标B. 某张电影海报的著作权C. 某家百年老店的企业名称D. 某项已经授予专利权的发明正确答案:D,2.(多项选择题)(每题 2.00 分) 政府部门的知识产权公共服务职能表现在()。
A. 配置公共资源B. 提供公共产品C. 营造政策环境D. 实施有效监管E. 专业人才培育正确答案:A,B,C,D,3.(多项选择题)(每题 2.00 分) 在我国,保护商业秘密的法律依据不包括()。
A. 《反不正当竞争法》B. 《专利法》C. 《著作权法》D. 《商标法》E. 《反垄断法》正确答案:B,C,D,E,4.(多项选择题)(每题 2.00 分)根据以下材料,回答91-95题甲公司的研发人员王某,其主要职责是负责新药的研发。
在公司里面,王某是出名的工作狂人,经常利用休息时间继续从事研发工作。
在一个周末,王某研制出一种新药。
经过严格的试验,核实该新药对治疗糖尿病有很好的疗效,拟准备向我国有关部门申请专利。
该申请经过国家有关部门的严格审查,最终得以审核通过并授予专利权。
随后,甲公司经过中介人介绍,将该新药技术授权给乙制药厂使用,并签订了5年合同。
在此期间,甲公司与中介人就服务报酬、中介活动的费用产生纷争:除此以外,甲公司与乙制药厂及丙公司也发生了纷争。
乙制药厂从签订合同第2年就不再按期支付使用费,理由是该新药的效果并不理想。
丙公司则是认为甲公司的新药与其在此之前就已经上市销售的治疗糖尿病的“老药”相比,在其构成、疗效等方面并没有显著的进步,进而主张其专利无效。
现在,甲公司准备采取积极的措施维护自己的权利。
为了使新药能够顺利获得专利授权,申请人需要准备的申请材料有( )。
A. 权利要求书B. 说明书C. 药品图片D. 前期的研发资料正确答案:A,B,5.(单项选择题)(每题 1.00 分) 根据《刑法》的规定,未经注册商标所有人许可,在同一种商品上使用与其注册商标相同的商标,情节严重的,处()有期徒刑或者拘役,并处或者单处罚金。
大学知识产权法考试(习题卷11)说明:答案和解析在试卷最后第1部分:单项选择题,共62题,每题只有一个正确答案,多选或少选均不得分。
1.[单选题]以下的著作人身权当中,保护期限受时间限制的是( )。
A)署名权B)修改权C)发表权2.[单选题]在商标方面的国际公约中、我国未加入的是〔)A)《商标国际注册马德里协定》B)《商标国际注册马德里协定有关议定书》C)《商标法律条约》3.[单选题]对于初步审定、予以公告的而标提出异议的、由()做出裁定:他人对于己注册商标提出争议的、由〔)做出裁定A)商标局、商标评审委员会B)商标局.商标局C)节商标评审委员会、商标局4.[单选题]按照我国专利法的规定。
专利的种类包括()和( )A)发明、植物新品种、外观设计B)发明、实用新型、外观设计C)发明、实用新型、集成电路布图设计5.[单选题]在下列侵犯著作权的行为中、可能受到著作权行政管理部门处罚、甚至被依法追究刑事责任的有.A)剽窃他人作品的B)未经表演者许可、复制.、发行录有其表演的录音录像制品的C)未经表演者许可、从现场直播或者公开传送其现场表演的6.[单选题]2008年华夏出版社组织刘明等50位学者编写系列丛书《中原文化》,刘明是主编。
该丛书的著作权属于( )A)华夏出版社B)刘明C)刘明等50位学者共有D)华夏出版社和刘明共有7.[单选题]李某于l998年6月1日创作完成了长篇小说《月夜》,并于1999年1月1日发表。
2000年3月12日,李某不幸去世。
李某就该小说所享有的著作财产权终止于A)2048年5月31日B)2048年l2月31日D)2050年l2月31日8.[单选题]世界上第一部具有现代意义的专利法是( )A)1624年英国的《垄断法案》B)1290年美国的《专利法》C)1791年法国的《专利法》D)1474年威尼斯城邦共和国的《专利法》9.[单选题]我国对发明专利申请采用的审查制度是( )A)早期公开,延迟实质审查制B)初步审查制C)形式审查制D)不审查制10.[单选题]下列关于职务发明的表述,不正确的是:A)职务发明是指发明人、设计人在执行本单位任务时,或者主要是利用本单位的物质条件所完成的发明创造;B)退职、退休或者调动工作后一年内作出的,与其在原单位承担的本职工作或者分配的任务有关的发明创造,是职务发明;C)主要利用本单位的物质技术条件所完成的发明创造,发明人可以和单位协议,对该发明创造申请个人专利;D)主要利用本单位的物质技术条件所完成的发明创造,绝对属于职务发明,由所在单位享有专利权。
集成电路布图设计专有权被撤销后侵权诉讼的处理集成电路布图设计专有权是以集成电路布图设计为主要内容的知识产权。
在中国,集成电路布图设计自1985年开始适用专利法律保护。
在这些年中,集成电路布图设计专利已经成为了受到重视的知识产权领域之一。
然而,随着信息技术的快速发展,集成电路的复杂化、尺寸的缩小、功耗的降低,以及新型的材料应用等导致集成电路研制费用越来越高。
因此,越来越多的企业选择使用其他企业的集成电路布图设计,以节省成本。
这样的行为往往会触动集成电路的专有权,引起专利权利人的维权行动。
在维权措施中,最常见的是通过侵权诉讼来解决纠纷。
通常,当集成电路专有权在有效期内,发现他人使用他的集成电路布图设计侵犯专有权时,权利人可以向人民法院提起侵权诉讼。
侵权的行为包括重复使用他人布图设计、上市销售等商业行为。
在法庭上,专利权利人需要提供相关的证据,证明对方侵犯了自己的专有权。
一旦确认对方侵权,被告会被判定为侵权行为,需要赔偿专利权利人经济损失,同时停止侵权行为。
然而,如果专有权被撤销,则相当于撤回专利的比较实质性的权利保护,因为撤销后它具有同样的后效性,除非行政处罚的法律法规适用规定反之。
在此情况下,专利持有人无法继续对侵权行为进行起诉,也无法要求被告停止侵权行为,或获取经济赔偿。
那么,什么情况下会导致集成电路布图设计专有权被撤销呢?一般来说,专利权可由专利权利人、上级专利行政管理机关或利益相关者(撤销、无效请求人)进行撤销申请。
被申请人必须予以答复,否则受理视为被申请权利人放弃对专利权利的宣告。
撤销申请可分为自愿申请和强制申请两种。
自愿申请即专利权利人自愿撤销专利,强制申请则是在特定条件下由上级专利行政管理机关根据行政程序或行政命令进行撤销。
集成电路布图设计专有权被撤销的原因有很多,例如:1.专利权利人放弃了专利权专利权利人可以自主放弃专利权,这时专利权就不存在了。
2.期限问题如果专利权利人未缴纳年费或未提交保密期申请,就有可能导致专利权被撤销。
2023年中级经济师-(新)知识产权专业知识与实务考试备考题库附带答案第1卷一.全考点押密题库(共50题)1.(单项选择题)(每题 1.00 分) 关于中心限定原则,下列说法错误的是()。
A. 在确定专利权的保护范围时,严格以权利要求书的文字记载为唯一依据B. 可以为专利权提供尽可能大的保护,有效防止有人利用专利文件撰写的漏洞规避相应的责任追究C. 会导致专利权的保护范围比较模糊,增大了不确定性D. 确定专利权的保护范围时,并不拘泥于权利要求书中的文字记载,而是将权利要求书作为保护范围的中心,全面考虑发明的目的、性质以及说明书和附图2.(不定项选择题)(每题 2.00 分) 张三系甲制药公司技术主管。
2018年5月,张三私自接受乙制药公司聘请担任其技术顾问。
9月,甲公司得知后质问张三。
张三表示自愿退出乙公司,并承诺3年内不以任何直接或间接方式在任何一家制药公司任职或提供服务,否则将向甲公司支付20万元违约金。
2019年8月,甲公司发现张三已担任乙公司的副总经理,而且乙公司新产品已采用甲公司研发的药品配方。
甲公司以乙公司和张三为被告提起侵犯商业秘密的诉讼,要求立即停止侵权,并赔偿甲公司各项经济损失。
根据我国《反不正当竞争法》,构成商业秘密的技术信息和经营信息必须具备的条件包括()。
A. 具有社会价值B. 属于商业信息C. 采取了保密措施D. 不为公众所知悉3.(不定项选择题)(每题 2.00 分)甲公司于2015年7月2日向商标局申请在第18类商品上注册“上下左右”商标。
2016年3月20日,《商标公告》刊载了甲公司商标注册申请的初步审定公告,核定使用商品为旅行包、公文包、行李箱、帆布背包。
2016年8月13日,《商标公告》刊载了甲公司商标注册申请的注册公告。
2017年12月29日,甲公司与乙公司签订《注册商标许可使用合同》,但未向商标局备案,该合同约定由乙公司在行李箱上使用“上下左右”商标,甲公司不得在行李箱上使用该商标,也不得授权任何第三人在行李箱上使用该商标,合同有效期10年。
2023年中级经济师-(新)知识产权专业知识与实务考试备考题库附带答案第1卷一.全考点押密题库(共50题)1.(单项选择题)(每题 1.00 分)下列不属于构成商业秘密必须具备的条件的是( )。
A. 具有商业价值B. 采取了保密措施C. 具有新颖性D. 属于技术信息和经营信息正确答案:C,2.(单项选择题)(每题 1.00 分) 关于地理标志专用标志的合法使用的表述中正确的是()。
A. 一件产品获得地理标志保护后,在其产地范围外的生产者也可以使用地理标志专用标志B. 地理标志专用标志可适用在产地范围内的任何产品上C. 地方知识产权管理部门负责地理标志专用标志使用的日常监管D. 对于使用地理标志专用标志的国内外地理标志保护产品,可以选择在地理标志专用标志的指定位置标注统一社会信用代码正确答案:C,3.(单项选择题)(每题 1.00 分) 下列侵权行为中不用承担损害赔偿责任的是()。
A. 制造发明、实用新型、外观设计专利产品的行为B. 许诺销售发明实用新型专利产品的行为C. 销售不知道是未经专利权人许可而制造并售出的专利产品,能证明其产品合法来源的D. 假冒他人专利的行为正确答案:C,4.(多项选择题)(每题 2.00 分)依据《刑法》的规定,下列属于犯罪行为的有()。
A. 未经注册商标所有人许可,在同一种商品上使用与其注册商标相同的商标,情节严重的B. 未经注册商标所有人许可,在类似商品上使用与其注册商标相同的商标,情节严重的C. 销售明知是假冒注册商标的商品,违法所得数额较大的D. 伪造、擅自制造他人注册商标标识,情节严重的E. 商标代理机构恶意申请商标注册,情节严重的正确答案:A,C,D,5.(单项选择题)(每题 1.00 分)关于商标的内涵,下列说法错误的是( )。
A. 商标是依附于商品或服务而存在的标志B. 商标是区别商品或服务地理来源的标志C. 商标应当具有显著特征D. 商标是一种可以为人所感知的符号正确答案:B,6.(多项选择题)(每题 2.00 分)下列选项中属于著作权国际保护的基本原则的是( )oA. 独立保护原则B. 自动保护原则C. 国民待遇原则D. 最低保护标准原则E. 最惠国原则正确答案:A,B,C,D,7.(不定项选择题)(每题 2.00 分) 在2019年的新冠疫情中,诸多行业都受到沉重打击,但医疗器械行业则取得较大的发展,尤其是呼吸机生产企业。
申请集成电路布图设计保护须知(小编整理)第一篇:申请集成电路布图设计保护须知申请集成电路布图设计保护须知大中小依据《集成电路布图设计保护条例》(以下简称条例),在申请集成电路布图设计专有权登记过程中,我们应该注意如下事项。
什么样的布图设计具有独创性?要求保护的布图设计必须具有独创性,即该布图是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时,该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体同样应当具有独创性。
在这里,独创性评判的时间“创作时”为创作完成日;评判人为布图创作者和集成电路制造者;评判标准要视其是否是公认的常规设计。
特别应当指出的是布图设计仅保护根据网表设计出的布图,并不能延及思想、处理过程,操作方法或数字概念。
同时,不登记不予保护。
谁能享有布图设计专有权?中国的单位、个人或者其他组织创作的布图设计,依照条例享有布图设计专有权。
对于外国人,要区别对待:外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照条例享有布图设计专有权;未在中国首先投入利用的布图设计,必须在中国参加WTO之后,才能申请。
港、澳、台地区的申请,按国内申请处理,但法人必须委托涉外代理机构办理。
根据条例规定,布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,仍可向国家知识产权局提出登记申请。
我国根据TRIPS协议,将这一专有权追溯到1999年10月1日。
国家知识产权局对布图设计的权利人采用推定原则,即认为凡是到国家知识产权局来申请的,都视其是有权利的人。
若出现问题,应通过司法程序解决。
申请人应提交哪些文件和样品?申请人应提交的文件和样品包括布图设计登记申请表;布图设计的复制件或图样;布图已投入商业使用的,应提交含有该布图的集成电路样品;国家知识产权局规定的其他材料。
出现哪些问题申请将失败?申请人未提交申请表,未提交复制件或图样,或者已投入商业利用未提交样品,或者与文件不一致;外国的申请在我国未参加WTO时提交;外国的申请以及港、澳、台的法人申请未按规定委托代理机构;首次商业利用日在申请日之前超过2年;创作日超过15年。
上海市知识产权局关于《上海市集成电路布图设计登记资助管理办法》的起草说明文章属性•【制定机关】上海市知识产权局•【公布日期】2019.10.23•【字号】•【施行日期】2019.10.23•【效力等级】地方规范性文件•【时效性】现行有效•【主题分类】知识产权综合规定正文上海市知识产权局关于《上海市集成电路布图设计登记资助管理办法》的起草说明为鼓励本市集成电路布图设计(以下简称布图设计)登记,保护布图设计专有权,促进集成电路产业发展,根据国务院《集成电路布图设计保护条例》(国务院令第300号)和上海市人民政府《关于本市进一步鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》(沪府发〔2017〕23号)要求,对《上海市集成电路布图设计登记资助管理办法》(沪知局〔2013〕69号)进行修订后发布实施。
现将有关情况说明如下:一、起草背景以及必要性2013年市知识产权局会同市财政局制定了《上海市集成电路布图设计登记资助管理办法》(以下简称原《管理办法》)。
自原《管理办法》出台至2018年9月底,资助布图设计登记1522件,有效提高了企业登记布图设计的积极性,加强对布图设计专有权的保护,促进集成电路产业发展。
由于原《管理办法》于2018年到期且部分条款已不适用,为继续强化对集成电路产业发展的促进作用,调动企业登记布图设计积极性,落实市政府“一网通办”有关精神,现对已到期的原《管理办法》进行修订后重新发布实施。
二、起草过程在原《管理办法》的基础上,响应市政府“互联网+政务服务”的要求,落实“一网通办”有关精神,经处室内部讨论形成《上海市集成电路布图设计登记资助管理办法》(以下简称《管理办法》)讨论稿。
2019年1月14日,本局召开由上海集成电路研发中心有限公司等5家企业代表参加的座谈会,听取企业对《管理办法》的修改意见,会上企业提出几点建议:一是希望继续实施资助政策,鼓励企业登记布图设计;二是由于个人实施集成电路布图设计存在很大困难,不具备实施能力,建议取消对个人的资助;三是由于布图设计公告日和颁证日存在6-8个月的时间差(公告日在后),建议申请期限以颁证日为起算日,方便企业申请;四是申请材料比较繁琐,建议适当减少。
集成电路布图设计专有权公告(2014年1月17日)布图设计登记号:BS.135013224布图设计申请日:2013年10月28日公告日期:2014年1月17日公告号:8520布图设计名称:HL55LPDCD100D1V1布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:上海华力微电子有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市浦东新区高斯路568号布图设计创作人:伍苹代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人:郑玮布图设计创作完成日:2012年11月15日布图设计登记号:BS.135013275布图设计申请日:2013年11月7日公告日期:2014年1月17日公告号:8521布图设计名称:Mi213m 低压载波通讯电路布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:微型计算机布图设计权利人:弥亚微电子(上海)有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市浦东新区张衡路290号4层布图设计创作人:弥亚微电子(上海)有限公司布图设计创作完成日:2013年7月9日布图设计登记号:BS.13501283X布图设计申请日:2013年10月30日公告日期:2014年1月17日公告号:8522布图设计名称:ME2159布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:南京微盟电子有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:南京市玄武区玄武大道699-8号,一号楼5层布图设计创作人:南京微盟电子有限公司布图设计创作完成日:2013年3月15日布图设计登记号:BS.135013070布图设计申请日:2013年11月6日公告日期:2014年1月17日公告号:8523布图设计名称:ATT7022E布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:逻辑布图设计权利人:钜泉光电科技(上海)股份有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市浦东新区张东路1388号16栋布图设计创作人:李秋敏、苗跃、童焕坤、阳晓华、雍勇布图设计创作完成日:2013年7月1日布图设计登记号:BS.135012732布图设计申请日:2013年10月19日公告日期:2014年1月17日公告号:8524布图设计名称:功率放大器CSC8005布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:线性布图设计权利人:无锡市晶源微电子有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:无锡国家高新技术产业开发区106-C地块A幢209室布图设计创作人:无锡市晶源微电子有限公司布图设计创作完成日:2013年7月10日布图设计登记号:BS.135012724布图设计申请日:2013年10月19日公告日期:2014年1月17日公告号:8525布图设计名称:三选一立体声音频功率放大器CSC7299布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:线性布图设计权利人:无锡市晶源微电子有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:无锡国家高新技术产业开发区106-C地块A幢209室布图设计创作人:无锡市晶源微电子有限公司布图设计登记号:BS.135013356布图设计申请日:2013年11月13日公告日期:2014年1月17日公告号:8526布图设计名称:VG54123A布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:线性布图设计权利人:上海复旦微电子集团股份有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市国泰路127号4号楼布图设计创作人:上海复旦微电子集团股份有限公司布图设计创作完成日:2013年6月14日布图设计登记号:BS.135013135布图设计申请日:2013年11月2日公告日期:2014年1月17日公告号:8527布图设计名称:AW3210ADNR布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:上海艾为电子技术有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市徐汇区桂平路418号兴园大厦15层布图设计创作人:罗金来、杨敏、陈康布图设计创作完成日:2013年5月20日布图设计登记号:BS.135013089公告日期:2014年1月17日公告号:8528布图设计名称:AW5209QNR布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:上海艾为电子技术有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市徐汇区桂平路418号兴园大厦15层布图设计创作人:赖礼俊、耿伟、罗金来、李秋霞布图设计创作完成日:2013年7月3日布图设计登记号:BS.135013119布图设计申请日:2013年11月2日公告日期:2014年1月17日公告号:8529布图设计名称:AW3641布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:上海艾为电子技术有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市徐汇区桂平路418号兴园大厦15层布图设计创作人:袁庆涛、王朝、赖礼俊、梁仲恺布图设计创作完成日:2013年8月14日布图设计登记号:BS.135012937布图设计申请日:2013年11月5日公告日期:2014年1月17日布图设计名称:HS6531布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:北京中科汉天下电子技术有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:北京市海淀区知春路6号锦秋国际大厦16层A07室布图设计创作人:北京中科汉天下电子技术有限公司布图设计创作完成日:2013年9月1日布图设计登记号:BS.135013151布图设计申请日:2013年11月5日公告日期:2014年1月17日公告号:8531布图设计名称:非隔离降压型LED驱动器YT2628布图设计类别:结构:MOS技术:其他功能:其他布图设计权利人:无锡颐鼎科技有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:无锡蠡园经济开发区标准厂房A3-5楼布图设计创作人:陈惠新、卢宝骅、陆瑞玉、林清•d、孙玉布图设计创作完成日:2013年7月3日布图设计首次商业利用日:2013年9月4日布图设计登记号:BS.135013402布图设计申请日:2013年10月28日公告日期:2014年1月17日公告号:8532布图设计类别:结构:Bi-MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:苏州智浦芯联电子科技有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:苏州工业园区新平街388号腾飞苏州创新园23幢3层09、10单元布图设计创作人:苏州智浦芯联电子科技有限公司代理机构:江苏永衡昭辉律师事务所代理人:王剑布图设计创作完成日:2012年9月27日布图设计首次商业利用日:2013年2月1日布图设计登记号:BS.135013399布图设计申请日:2013年10月28日公告日期:2014年1月17日公告号:8533布图设计名称:CL0126布图设计类别:结构:Bi-MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:苏州智浦芯联电子科技有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:苏州工业园区新平街388号腾飞苏州创新园23幢3层09、10单元布图设计创作人:苏州智浦芯联电子科技有限公司代理机构:江苏永衡昭辉律师事务所代理人:王剑布图设计创作完成日:2012年9月27日布图设计首次商业利用日:2013年2月1日布图设计登记号:BS.135013232布图设计申请日:2013年10月28日公告日期:2014年1月17日公告号:8534布图设计名称:HL55LPVR100D1V1布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:上海华力微电子有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市浦东新区高斯路568号布图设计创作人:李嘉代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人:郑玮布图设计创作完成日:2013年4月18日布图设计登记号:BS.135012945布图设计申请日:2013年11月5日公告日期:2014年1月17日公告号:8535布图设计名称:HS1100布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:北京中科汉天下电子技术有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:北京市海淀区知春路6号锦秋国际大厦16层A07室布图设计创作人:北京中科汉天下电子技术有限公司布图设计创作完成日:2013年9月1日布图设计登记号:BS.135013046布图设计申请日:2013年11月6日公告日期:2014年1月17日公告号:8536布图设计名称:HT8910布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:逻辑布图设计权利人:钜泉光电科技(上海)股份有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市浦东新区张东路1388号16栋布图设计创作人:李秋敏、赵冬芹、苗跃、童焕坤、阳晓华、雍勇、马侠布图设计创作完成日:2013年9月13日布图设计登记号:BS.135013100布图设计申请日:2013年11月2日公告日期:2014年1月17日公告号:8537布图设计名称:AW9929布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:上海艾为电子技术有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市徐汇区桂平路418号兴园大厦15层布图设计创作人:王朝、袁庆涛、蔡友刚、孔庆河布图设计创作完成日:2013年6月7日布图设计登记号:BS.135013372公告日期:2014年1月17日公告号:8538布图设计名称:FM2149B布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:线性布图设计权利人:上海复旦微电子集团股份有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市国泰路127号4号楼布图设计创作人:上海复旦微电子集团股份有限公司布图设计创作完成日:2013年4月2日布图设计登记号:BS.135013267布图设计申请日:2013年11月7日公告日期:2014年1月17日公告号:8539布图设计名称:Mi400E 低压载波通讯电路布图设计类别:结构:MOS技术:其他功能:微型计算机布图设计权利人:弥亚微电子(上海)有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市浦东新区张衡路290号4层布图设计创作人:弥亚微电子(上海)有限公司布图设计创作完成日:2013年3月20日布图设计登记号:BS.135012821布图设计申请日:2013年10月29日公告日期:2014年1月17日布图设计名称:SC51P0916布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:微型计算机布图设计权利人:杭州士兰微电子股份有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:浙江省杭州市黄姑山路4号布图设计创作人:杭州士兰微电子股份有限公司布图设计创作完成日:2013年8月12日布图设计登记号:BS.13500859X布图设计申请日:2013年7月26日公告日期:2014年1月17日公告号:8541布图设计名称:倒扣焊封装热阻测试芯片布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:丁荣峥布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:江苏省无锡市滨湖区惠河路5号布图设计权利人:李欣燕布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:江苏省无锡市滨湖区惠河路5号布图设计权利人:明雪飞布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:江苏省无锡市滨湖区惠河路5号布图设计创作人:丁荣峥、李欣燕、明雪飞布图设计创作完成日:2012年12月20日布图设计登记号:BS.135013038布图设计申请日:2013年11月6日公告日期:2014年1月17日公告号:8542布图设计名称:ATT7053B布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:逻辑布图设计权利人:钜泉光电科技(上海)股份有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市浦东新区张东路1388号16栋布图设计创作人:李秋敏、赵冬芹、苗跃、童焕坤、阳晓华、雍勇布图设计创作完成日:2013年8月30日布图设计登记号:BS.135012716布图设计申请日:2013年10月19日公告日期:2014年1月17日公告号:8543布图设计名称:电动车三相马达驱动电路CSC1310布图设计类别:结构:其他技术:其他功能:其他布图设计权利人:无锡市晶源微电子有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:无锡国家高新技术产业开发区106-C地块A幢209室布图设计创作人:无锡市晶源微电子有限公司布图设计创作完成日:2013年7月8日布图设计登记号:BS.135013097布图设计申请日:2013年11月2日公告日期:2014年1月17日公告号:8544布图设计名称:AW8155A布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:其他布图设计权利人:上海艾为电子技术有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市徐汇区桂平路418号兴园大厦15层布图设计创作人:李秋霞、王朝、管少钧布图设计创作完成日:2013年8月26日布图设计登记号:BS.135013259布图设计申请日:2013年11月7日公告日期:2014年1月17日公告号:8545布图设计名称:Mi2012m 低压载波通讯电路布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:微型计算机布图设计权利人:弥亚微电子(上海)有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市浦东新区张衡路290号4层布图设计创作人:弥亚微电子(上海)有限公司布图设计创作完成日:2012年11月20日布图设计登记号:BS.135013364布图设计申请日:2013年11月13日公告日期:2014年1月17日公告号:8546布图设计名称:FM2149A布图设计类别:结构:MOS技术:CMOS功能:线性布图设计权利人:上海复旦微电子集团股份有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:上海市国泰路127号4号楼布图设计创作人:上海复旦微电子集团股份有限公司布图设计创作完成日:2013年4月2日。
集成电路布图设计合同纠纷执行申请合同编号:[编号]签订日期: [日期]甲方:[甲方名称]地址:[甲方地址]法定代表人:[甲方代表人]联系电话:[甲方电话]身份证号码: [甲方身份证号码]乙方:[乙方名称]地址:[乙方地址]法定代表人:[乙方代表人]联系电话:[乙方电话]身份证号码:[乙方身份证号码]鉴于:1. 甲方是一家从事集成电路布图设计业务的公司,具备相应的技术和资质;2. 乙方是一家需要进行集成电路布图设计的企业,并愿意委托甲方提供相关服务;3. 双方经友好协商,决定依据《中华人民共和国合同法》订立本合同。
经双方协商一致,达成如下合同条款:第一条合同目的甲方同意根据乙方的要求,对乙方提供集成电路布图设计服务,乙方委托甲方完成相关工作。
第二条服务内容1. 乙方提供的需求和技术要求:[详细描述乙方所需集成电路布图设计的具体要求]2. 甲方提供的服务内容:根据乙方提供的需求,完成集成电路布图设计,并提供相应的文档和技术支持。
3. 交付期限:双方约定的交付期限为 [具体日期]。
第三条价格和支付方式1. 乙方支付给甲方的合同总价款为 [具体金额],币种为人民币。
2. 支付方式:乙方需在合同签订后 [具体天数] 内支付全款至甲方指定的账户。
第四条保密条款1. 双方同意在合作过程中保守对方的商业秘密和技术资料,未经对方书面同意,不得向任何第三方披露。
2. 合同终止或解除后,双方仍应继续履行保密义务。
第五条违约责任1. 任何一方违反本合同约定的,应承担相应的违约责任并赔偿对方因此遭受的损失。
2. 如因甲方原因导致无法按时交付设计成果,甲方应赔偿乙方因此造成的一切损失。
第六条合同变更和解除1. 任何一方变更合同内容或解除合同,应提前 [具体天数] 书面通知对方,并经双方协商一致。
2. 双方协商一致后,变更或解除的事项应以书面形式作出补充协议或解除协议。
第七条争议解决1. 合同执行过程中如发生争议,双方应友好协商解决;如协商不成,应提交甲方所在地的人民法院诉讼解决。
集成电路布图设计合同纠纷行政处理决定申请尊敬的申请机关:本人系xxxxxxxx公司的法务部负责人,特向贵机关申请行政处理决定。
根据我公司与另一家公司xxxxxxx之间签订的《集成电路布图设计合同》(以下简称“合同”)发生了合同纠纷,经过多方协商未能解决,故希望贵机关能根据相关法律法规,依法作出公正的处理决定。
一、案情介绍我公司与xxxxxxx公司分别为设计方和委托方,根据双方达成的意向,于xxxx年xx月xx日签署了上述《集成电路布图设计合同》。
根据合同约定,我公司应根据委托方提供的需求,进行集成电路布图设计工作,并按约定时间交付成果。
合同签订后,双方一度合作顺利,但在项目进行过程中,由于委托方频繁要求设计方对设计方案进行修改,给项目进展和设计质量带来一定程度的不确定性。
委托方的要求严重干扰了设计方的正常设计节奏,导致项目延误,甚至影响了设计质量。
双方在双方的工作沟通和协调不畅、要求变更无法达成一致的情况下,合同发生纠纷,并互相提出了法律仲裁请求。
经过多次协商与谈判,未能取得解决合同纠纷的一致意见。
鉴于此,我方决定向贵机关申请行政处理决定,希望贵机关能以公正、客观的态度处理该合同纠纷。
二、申请的理由1. 合同约定纠纷处理方式为行政处理。
根据《中华人民共和国合同法》及相关司法解释,当合同各方当事人未能就合同纠纷达成一致时,可以依法采用行政处理方式进行调解,以确保公平公正的处理结果。
我方与对方一直秉持这样的原则,因此我方决定在无法通过协商解决的情况下,选择向贵机关申请行政处理决定。
2. 委托方的要求对设计方造成严重不利影响。
在该合同执行过程中,委托方频繁要求设计方进行设计方案的修改,这直接干扰了设计方的正常工作进程,并造成了不可预测的变化和延误。
设计方尽力调整工作计划以满足委托方要求,但委托方的无休止的变更要求使得设计方的设计质量无法保证,甚至在一定程度上影响了设计成果的可用性。
3. 委托方未能履行合同约定的付款义务。
集成电路布图设计合同纠纷仲裁申请申请人:XXX公司被申请人:YYY公司一、引言根据《中华人民共和国合同法》等相关法律规定,我公司XXX在与YYY公司签订的集成电路布图设计合同中,存在争议,特此向仲裁机构申请仲裁,希望能够公正、客观地解决该合同纠纷。
二、事实陈述我公司与被申请人在某日期签订了集成电路布图设计合同,合同约定XXX公司为YYY公司提供集成电路布图设计服务。
按照合同约定,双方为了达成共识,经过多轮商议和修改,最终达成合作协议。
但是,在合作过程中,我们发现被申请人未能按照合同约定的要求履行其义务。
具体争议点如下:1. 被申请人未按照合同约定的时间节点交付所需的设计图纸,导致我们的项目进度延误。
2. 被申请人提供的设计图纸存在明显的缺陷和错误,严重影响了产品的性能和可靠性。
3. 被申请人未按要求对设计图纸进行及时修正和改进。
基于上述争议,我公司多次与被申请人进行了协商和沟通,但未能取得满意的解决方案。
因此,我们基于合同约定,决定向贵仲裁机构提交仲裁申请,希望能够得到公正的处理和裁决。
三、仲裁请求及事项根据上述事实陈述,我们特此向贵仲裁机构提出以下请求:1. 被申请人应立即按照合同约定的时间节点,向我公司交付符合要求的设计图纸。
2. 被申请人应对已提供的设计图纸中的缺陷和错误进行修正和改进,确保设计符合合同约定的质量标准。
3. 被申请人应承担我公司由于项目延误所造成的损失,包括但不限于额外的开支、赔偿金等。
4. 其他与本合同纠纷有关的事项。
四、证据材料为了支持我们的仲裁请求,并证明被申请人履行合同存在的问题,我公司特向贵机构提交以下证据材料:1. 合同正本及其副本。
2. 双方往来函件、邮件、短信等书面沟通记录。
3. 项目进度表、项目延误造成的经济损失明细。
4. 相关专业人员对设计图纸质量的评估报告。
5. 其他与本合同纠纷有关的证据。
五、仲裁程序及法律适用我们同意按照贵仲裁机构的规则和程序进行仲裁,接受裁决结果,并承担相关仲裁费用。