左图为测得晶体管 在V DS=3V时的IDSVDS曲线,从图中可 知,关态的电流在 10-9A量级,开态电 流在10-5A量级,开 关比接近104。 GaN - MOCVD ZnO材料与器件 一、引言 二、设备和技术方法介绍 三、 p- ZnO材料的研究情况 四、 ZnO基p-n结及发光管的研究情况 五、 ZnO材料发光存在的问题与讨论 AlN薄膜的Al、N元素XPS谱图 Al2p的电子结合能为74.12eV,N1s的电子结合能为397.31 eV 薄膜的化学计量比为1.03:1,接近其化学计量比 D S w L ZnO AlN Si G ①在Si衬底上用MBE方法生长AlN(128nm) ②用MOCVD方法生长ZnO(100nm) ③蒸发Al制作源栅漏电极,其中源漏采用钨丝掩膜