内容目录
一、湿电子化学品行业简介 (7)
1.湿电子化学品种类繁多，应用广泛，纯度要求高 (7)
2.湿电子化学品的分类 (7)
3.湿电子化学品的质量标准 (7)
二、湿电子化学品的生产技术 (9)
1.纯化技术是湿电子化学品生产的关键 (9)
2.湿电子化学品的分析测试与标准化技术 (9)
3.包装和运输是保证产品质量的重要环节 (9)
4.湿电子化学品的制备方法 (9)
5.国内企业有望突破湿电子化学品生产中的壁垒 (12)
三、湿电子化学品在下游产业中的应用及市场分析 (13)
1.半导体用湿电子化学品市场空间广阔 (13)
2.湿电子化学品随着半导体制程复杂化，用量大幅提升 (15)
3.平板显示制造过程用湿电子化学品市场分析 (16)
4.湿电子化学品在平板显示制造过程中的使用现状 (17)
5.太阳能电池用湿电子化学品市场增速较快 (19)
6.国产湿电子化学品在太阳能电池中的应用工艺 (20)
四、国内湿电子化学品未来发展空间 (21)
1.国内市场增长迅速，市场空间广阔 (21)
2.国内企业与国外企业竞争压力大，具有技术差距，高端产品依赖进口 (21)
3.国内龙头企业快速发展，进口替代空间大 (23)
投资建议 (24)
风险提示 (25)
图表目录
图表1：2014年湿电子化学品国内市场需求量 (7)
图表2：美国SEMI提出的工艺化学品的国际标准等级 (8)
图表3：超高纯净试剂与IC发展关系 (8)
图表4：湿电子化学品常用纯化方法 (9)
图表5：电子级过氧化氢的制备方法 (10)
图表6：吸附–树脂法精制双氧水水溶液的流程示意图 (11)
图表7：电子级盐酸的制备方法 (11)
图表8：亚沸蒸馏制取超净电子级盐酸工艺流程图 (11)
图表9：超净高纯氨水生产工艺 (12)
图表10：电子级氢氟酸生产工艺 (12)
图表11：国内半导体集成电路产值规模及增速 (13)
图表12：半导体在生产中各化学品需求占比 (14)
图表13：国内在建的12寸晶圆制造厂 (14)
图表14：我国半导体用湿电子化学品的需求量及增速 (15)
图表15：我国半导体用湿电子化学品需求金额及增速 (15)
图表16：晶圆污染物及常用清洗试剂表 (15)
图表17：近年来国内TFT-LCD面板产能全球占比显著提升 (16)
图表18：国内面板厂商市场份额逐年增加 (16)
图表19：国内主要TFT-LCD厂商快速扩产 (17)
图表20：国内液晶面板用湿电子化学品需求持续增长 (17)
图表21：中国拟建的12寸晶圆厂 (17)
图表22：国内平板显示主要技术 (18)
图表23：平板显示制造工艺流程 (18)
图表24：平板显示制造过程中涉及的湿电子化学品及其种类 (19)
图表25：全球太阳能光伏装机容量及增速 (19)
图表26：全球新增太阳能装机总量及增速 (19)
图表27：国内太阳能电池用湿电子化学品需求数量持续增长 (20)
图表28：晶硅太阳能电池制作流程示意图 (20)
图表29：国内湿电子化学品市场持续增长 (21)
图表30：国内湿电子化学品内资企业市场占有率 (23)
图表31：我国湿电子化学品主要公司简况及实际产能统计 (23)
图表32：江化微核心技术简介 (24)
图表33：晶瑞股份核心技术简介 (25)
一、湿电子化学品行业简介
1.湿电子化学品种类繁多，应用广泛，纯度要求高
湿电子化学品种类繁多，应用广泛。湿电子化学品是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料，主要包括通用的超净高纯试剂和一系列
功能性化学品，具有技术门槛高、资金投入大、产品更新换代快等特点。湿电
子化学品的一般要求是超净和高纯，要求化学试剂中控制颗粒的粒径在0.5µm
以下，杂质含量低于ppm级（10-6为ppm，10-9为ppb，10-12为ppt），是
化学试剂中对颗粒控制、杂质含量要求最高的试剂。湿电子化学品广泛的应用
在半导体、平板显示、太阳能电池等多个领域。
2.湿电子化学品的分类
湿电子化学品按其用途可分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品。通用湿电子化学品主要用于液晶显示，太阳能电池等领域，主要为各种酸碱与有
机溶剂。功能湿电子化学品是通过复配手段达到预期化学性质的特殊化学品，
主要包括显影液，刻蚀液，剥离液，缓冲刻蚀液等。在集成电路和分立器件的
制作方面，依照超净高纯试剂的用途，可以将其划分为湿法清洗剂，光刻胶配
套试剂，湿法蚀刻剂和掺杂用试剂等。功能性湿电子化学品附加值高，未来应
用市场大。有关资料显示，湿电子化学品在国内市场需求量占比如下：
图表1：2014年湿电子化学品国内市场需求量
3.湿电子化学品的质量标准
1975年，美国的国际半导体设备与材料协会(Semi conductor Equipment and Materials International，SEMI)首先为微电子工业配套的超净高纯化学品
制定了国际统一标准——SEMI标准。1978年，德国的伊默克公司也制定了
MOS标准。两种标准对超净高纯化学品中金属杂质和(尘埃)微粒的要求各有侧
重，分别适用于不同级别IC的制作要求。其中，SEMI标准更早取得世界范围
内的普遍认可。
