4.1 光波导制作概述4.1.3 材料与制作技术制作技术材料高分子 化合物玻璃硫硒碲 化合物LiNbO3 LiTaO3ZnONb2O5 Ta2O5Si3N4YIG旋转涂敷√淀真空镀膜√积溅射√√√√法 化学汽相沉积(CVD)√√√聚合√热扩

则调制波的表达式为： / 其中 k f 称为频率比例系数 m f m称为调频系数【相位调制】 相位调制就是载波中的相位角随调制信号的变化规律而变 化。调相波的总相角：则调相波的表达式为：3、强度调制光束强度定义为光波电场的平方，其表达式

第四章 光波导调制器第四章 光波导调制器 实现光调制有两种方式: 一种方式是用调制信号直接控制激光器的振 荡参数,使输出光的特性随信号而改变,称为 内调制. 另一种方式是调制信号作用于激光腔外面的 调制器,产生某种物理效应(电光,磁光,

145Hale Waihona Puke 1. 把欲传输的信息加载于光波上，对光的参量（振 幅、频率、相位、偏振状态和传播方向等）进行 控制使其发生变化并携带信息的过程称为调制。 2. 一般应用最多的是对光的振幅调制。因为光强与 光的振幅平

第二章 多传感器的光网络技术 2．2．1 网络损耗的主要来源 1．弯曲引起的光纤损耗（弯曲损耗） 弯曲损耗： 宏弯损耗 微弯损耗 1）光纤的宏弯损耗:曲率半径在一个临界值 c R ，c R R 时附加损耗可以忽略不计；否则， 弯曲损耗指数增

1-1光电子器件按功能分为哪几类？每类大致包括哪些器件？ 光电子器件按功能分为光源器件、光传输器件、光控制器件、光探测器件、光存储器件、光显示器件。 光源器件分为相干光源和非相干光源。相干光源主要包括激光器和非线性光学器件等。非相干光源包括

第四章 光源的调制和光发射机下面简单介绍常用的二种间接调制器。 1、电/光调制器电－光调制器的基本工作原理是晶体 的线性电光效应，电光效应是指：电场 引起晶体折射率变化的现象。能够

二、光发射机的组成 数字光发射机的原理框图如下：光发射机主要由光源和电路两部分组成，各部分功能如下： 1、光源 对通信用光源的要求如下 （1）发射的光波长和光纤低损耗“窗口”一致，

第四章 光源的调制和光发射机2、声/光调制器 声/光调制器是利用介质的声光效应制成。 所谓声光效应，是由于声波在介质中传播时，介质受声 波压强作用而产生应变，这种应变使得介质的折射

第四章 光源的调制和光发射机张驰振荡和电光延迟的后果是限制调制速率，当最高调制 频率接近张驰振荡频率时(f调max＝fr)，波形失真严重，会使 接收在抽样判决时增加误码率，因此，实

T1 BBL n2 n12c 1. 阶跃光纤-传输容量限制:BL n2 n12c 对于无包层的特殊光纤，n1=1.5，n2=1.0(空气)， =0.33很大，BL<0.4(M

4.2.3 电光调制器的电学性能 1. 外电路对调制带宽的限制 调制带宽是电光调制器的一个重要参量，对于电光调制器来说，晶体的电光效应本身不会限制调制器的频率特性，因为 晶格的谐振频率可以达1 THz(1012 Hz)，所以，调制 器的调制

附件1：课程设计题目学院专业班级姓名指导教师年月日课程设计任务书学生姓名：刘金猛专业班级：电子科学与技术1301班指导教师：钟毅工作单位：信息工程学院题目: 双环光波导电光调制器的设计初始条件：本设计使用Matlab软件，通过在外加电场的作

第四章 光源的调制和光发射机一、光源的直接调制这种调制方式又称为“内调制”。 直接调制常用的三种方法 ①模拟强度调制（AIM）这种方式与基带传输 相似。 ②脉冲位置调制（PPM）这

PI为实的现某一调制深度， 带宽为fs所需的驱动功率相位调制器的功耗用 :P /fs 2 来量度， P为实现某一调相指数，带宽为fs所需的驱动功率。一 光波调制的基本概念--调制器

表4-7表明，用于LD，LED，PD的衬底材料主要为砷化镓、磷化铟、锗和硅。4.2 光波导衬底材料及加工4.2.1 光波导衬底材料材料 波长/µm 0.633 1.064 0.633 0.633 0.633 折射率 1.457 透光范围/µ