南京理工大学分析测试中心仪器设备展示

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南京理工大学分析测试中心仪器设备展示

X射线光电子能谱仪(XPS)简介

1.仪器名称:全自动聚焦扫描微区光电子能仪(XPS)

2.产品型号:PHI QuanteraⅡ

3.品牌:日美纳米表面分析仪器公司

4.产地:日本

5.主要技术指标

系统到达真空<5×10-10 torr;

Ag样品XPS光电子能量分辨率Ag 3d 5/2 峰半高宽FWHM < 0.50 eV ;

PET 样品XPS光电子能量分辨率C 1s的O=C-O峰半高宽FWHM < 0.85 eV ;

最小X射线斑束<9.0μm 在x方向;<9.0μm 在y方向;

XPS灵敏度> 15kcps <10.0 μm

能量分辨率<0.60 eV

离子枪最大电流>5.0 μA @ 5 kV ;

6.仪器使用范围

电子能谱仪可以对固体样品的表面元素组成进行定性和定量分析,还可以对样品表面原子的化学态及分子结构进行分析研究。利用氩离子深度剖析技术和角分辨XPS技术,可以获得样品表面不同深度的组成变化情况。利用小束斑X射线,可以对样品表面进行微区分析和元素及化学态成像分析。利用原位处理反应池,可在不同温度及压力下对样品进行不同气氛的处理,以获得实际使用气氛对样品表面组成及状态变化的动态影响信息。

适用于高分子材料、催化、电化学、半导体、金属、合金以及生物医学材料等。

管理员:白华萍

X射线衍射仪(XRD)

一仪器型号:D8 ADVANCE

二制造厂商:德国布鲁克公司

三主要技术指标:

测量精度:角度重现性±0.0001°;

测角仪半径≥200mm,测角圆直径可连续改变;

最小步长0.0001°;

角度范围(2θ):-110~168°;

最大扫描速度或最高定位速度:1500°/分;

温度范围:室温~900℃;

环境压力:1mbar-10bar;

最大输出:18KW;

稳定性:±0.01%;

管电压:20~60kV(1kV/1step);

管电流:10~300mA

四功能及应用范围:

仪器功能:X射线衍射仪对单晶、多晶和非晶样品进行结构参数分析,如物相鉴定和定量分析、室温至高温段的物相分析、晶胞参数测定(晶体结构分析)、多晶X-射线衍射的指标化以及晶粒尺寸和结晶度的测定等。可精确地测定物质的晶体结构,如:物相定性与定量分析,衍射谱的指标化及点阵参数。

应用范围:对材料学、物理学、化学、地质、环境、纳米材料、生物等领域来说,X射线衍射仪都是物质表征和质量控制不可缺少的方法。XRD能分析晶体材料诸如产业废弃物、矿物、催化剂、功能材料等的相组成分析,大部分晶体物质的定量、半定量分析;晶体物质晶粒大小的计算;晶体物质结晶度的计算等。

使用范围:金属材料:半导体材料、合金、超导材料、粉末冶金材料;无机材料:陶瓷

材料、磁性材料、催化剂、矿物、水泥、玻璃;复合材料:碳纤维、纤维大分子、工业废弃物;有机材料:医药品、工程塑料、各种树脂等。

管理员:李健生

仪器名称:扫描电子显微镜

仪器型号:JEOLJSM-6380LV

生产厂家:日本电子株式会社

主要技术性能指标:

高真空模式分辨率:3.0nm

低真空模式分辨率:4.0nm

放大倍数:*5 ~ *300,000

加速电压:0.5kv ~ 30kv

低真空度:1 ~ 270Pa

高、低真空切换:图形菜单设定

样品台:大尺寸、超级对中样品台(可装直径150mm样品),三轴马达驱动:X:800mm Y:40mm T:-10 ~ +90度R:360度Z:5 ~ 48mm

配套仪器名称:X射线能谱仪

仪器型号:GENESIS 2000

生产厂家:美国EDAX公司

主要技术性能指标:

元素分析范围:能够探测到低至铍Be4(包括铍)的所有元素

有效探测器面积:10m㎡

能量分辨率:优于等于132cV

信噪比/峰背比:>20,000:1

可处理最大计数率:500,000CPS

可输出最大计数率:100,000CPS

数字图像最大清晰度:8192x1600

定性定量成份分析

设备用途及主要技术特点:

扫描电子显微镜镜与X-射线能谱联用,构成一种多功能、多用途的显微分析系统。带有X射线能谱仪的扫描电子显微镜可同时对固体样品的微观形貌、结构,样品的微区元素成份及线分布、面分布、晶体样品的晶粒取向分析,取向关系分析等。扫描电子显微镜具有立体感强,放大倍数高、范围广,制样简单的特点。可广泛应用于化工、高分子材料、生物医学、冶金、金属材料等领域的分析测试。

管理员:刘孝恒

透射电子显微镜

透射电子显微镜由日本电子株式会社生产,型号为JEM—2100,可在化学化工,材料科学、生命科学等领域的教学和科研工作中得以广泛应用。

该设备可搭载windows操作界面,操作更简单。并可与STEM,EDS,CCD和EELS等实现一体化控制。该设备可配制高度稳定性的测角台设计先进,非常适于包括3维重构在内的样品台倾斜。选用日本电子专用软件,可以轻松实现3D观察。压电陶瓷控制样品台也独具优势。这些都为该设备使用功能的多元化和深度开发奠定了良好基础。

该设备采用3级聚光镜设计在任何束斑尺寸下都可以提高亮度电子束,大大提高了分析和衍射成像能力。

主要特点

1、五种极靴UHR、HR、HT、HC、CRYO

2、稳定的操作系统

3、最小束斑尺寸:0.5nm

4、良好的扩展性

技术参数

1、点分辨率:0.19nm

2、线分辨率:0.14nm

3、加速电压:80、100、120、160、200kv