半导体物理习题答案(1-3章)
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半导体物理学(刘恩科第七版)前五章课后习题解答( ) 半导体物理学(刘恩科第七版)前五章课后习题解答第一章习题1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量EV(k)分别为:h 2 k 2 h 2 ( k ? k1 ) 2 h 2 k 21 3h 2 k 2 Ec= + , EV (k ) = ? 3m0 m0 6m 0 m0 m0 为电子惯性质量,k1 =(1)禁带宽度; (2)导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量; (4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)导带:由2? 2 k 2? 2 (k ? k1 ) + =0 3m0 m0π, a = 0.314nm。
试求:a3 k14 d 2E 2? 2 2? 2 8? 2 又因为:2c = + = >0 3m0 m0 3m0 dk 得:k = 所以:在k = 价带:3 k处,Ec取极小值4dEV 6? 2 k =? = 0得k = 0 dk m0 d 2 EV 6? 2 又因为=? < 0, 所以k = 0处,EV 取极大值m0 dk 22 k123 因此:E g = EC ( k1 ) ? E V (0) = = 0.64eV4 12m0 ?2 = 2 d EC dk 2 3 = m0 83 k = k1 4(2)m* nC* (3)mnV =2 d 2 EV dk 2=?k = 01m0 6(4)准动量的定义:p = ?k 所以:?p = (?k )3 k = k1 43 ? (?k ) k =0 = ? k1 ? 0 = 7.95 × 10 ? 25 N / s 42. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:f = qE = h ? (0 ??k ?t 得?t = ??k ? qEπ ) a ?t1 = = 8.27 × 10 ?8 s ?19 2 ? 1.6 × 10 × 10 π ? (0 ? ) a ?t 2 = = 8.27 × 10 ?13 s ?19 7 ? 1.6 × 10 × 10第二章习题1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
第一章习题1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E V (k)分别为:E c =0220122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ 0m 。
试求:为电子惯性质量,nm a ak 314.0,1==π(1)禁带宽度;(2) 导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化 解:(1)eV m k E k E E E k m dk E d k m kdk dE Ec k k m m m dk E d k k m k k m k V C g V V V c 64.012)0()43(0,060064338232430)(2320212102220202020222101202==-==<-===-==>=+===-+ 因此:取极大值处,所以又因为得价带:取极小值处,所以:在又因为:得:由导带:043222*83)2(1m dk E d mk k C nC===sN k k k p k p m dk E d mk k k k V nV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11-===⨯=-=-=∆=-== 所以:准动量的定义:2. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:tkhqE f ∆∆== 得qE k t -∆=∆sat sat 137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(----⨯=⨯⨯--=∆⨯=⨯⨯--=∆ππ第三章习题和答案1. 计算能量在E=E c 到2*n 2C L 2m 100E E π+= 之间单位体积中的量子态数。
解322233*28100E 21233*22100E 0021233*231000L 8100)(3222)(22)(1Z VZZ )(Z )(22)(2322C22C L E m h E E E m V dE E E m V dE E g V d dEE g d E E m V E g c nc C n l m h E C n l m E C n n c n c πππππ=+-=-====-=*++⎰⎰**)()(单位体积内的量子态数)(2. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
半导体物理学第七版完整答案修订版IBMT standardization office【IBMT5AB-IBMT08-IBMT2C-ZZT18】第一章习题1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E V (k)分别为:E C (K )=0220122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ (1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量;(3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)2. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:tkhqE f ∆∆== 得qE k t -∆=∆补充题1分别计算Si (100),(110),(111)面每平方厘米内的原子个数,即原子面密度(提示:先画出各晶面内原子的位置和分布图)Si 在(100),(110)和(111)面上的原子分布如图1所示:(a )(100)晶面 (b )(110)晶面(c )(111)晶面补充题2一维晶体的电子能带可写为)2cos 81cos 87()22ka ka ma k E +-=(, 式中a 为 晶格常数,试求(1)布里渊区边界;(2)能带宽度;(3)电子在波矢k 状态时的速度;(4)能带底部电子的有效质量*n m ;(5)能带顶部空穴的有效质量*p m解:(1)由0)(=dk k dE 得 an k π= (n=0,?1,?2…)进一步分析an k π)12(+= ,E (k )有极大值,ank π2=时,E (k )有极小值所以布里渊区边界为an k π)12(+=(2)能带宽度为222)()mak E k E MINMAX =-( (3)电子在波矢k 状态的速度)2sin 41(sin 1ka ka ma dk dE v -==(4)电子的有效质量能带底部 an k π2=所以m m n2*= (5)能带顶部 an k π)12(+=, 且**n p m m -=,所以能带顶部空穴的有效质量32*mm p =半导体物理第2章习题1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
半导体物理学课后习题第一章 半导体的电子状态1. [能带结构计算]设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量)(k E c 和价带极大值附近能量)(k E v 分别为()()02120223m k k m k k E c -+= ()022021236m k m k k E v -= 式中,0m 为电子惯性质量,a k /1π=,nm a 314.0=。
试求: ① 禁带宽度;② 导带底电子有效质量; ③ 价带顶电子有效质量;④ 价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
解:①先找极值点位置()023201202=-+=m k k m k dk dE c 得出,当143k k =时,0212(min)4m k E c =同理由0=dk dE v 得当0=k 时,0212(max)6m k E v = 所以禁带宽度0212(max)(min)12m k E E E v c g =-==0.636eV ②830222*m dk E d m c nc== ③60222*m dk E d m v nv-==④由①可知,准动量的变化为)(109.7834301291--⋅⋅⨯-=-=⨯-⨯=∆=-=∆s m kg ahk k P P P c v2. [能带动力学相关]晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107V/m 的电场时,试分别计算电子能带底运动到能带顶所需要的时间。
解:设晶格常数为a ,则电子从能带底到能带顶过程中准动量的变化为ak π=∆,因为dt dk qE f==,所以qEdt dk =所以所需要的时间为:E =∙∆=∆=∆qa qE k dtdk k t π,当m V /102=E 时,s t 81028.8-⨯=∆ 当m V /107=E 时,s t 131028.8-⨯=∆第二章 半导体中杂质和缺陷能级1. [半导体、杂质概念]实际半导体与理想半导体的主要区别是什么? 解:杂质和缺陷的存在是实际半导体和理想半导体的主要区别。
半导体物理习题答案 HEN system office room 【HEN16H-HENS2AHENS8Q8-HENH1688】第一章半导体中的电子状态例1.证明:对于能带中的电子,K状态和-K状态的电子速度大小相等,方向相反。
即:v(k)= -v(-k),并解释为什么无外场时,晶体总电流等于零。
解:K状态电子的速度为:(1)同理,-K状态电子的速度则为:(2)从一维情况容易看出:(3)同理有:(4)(5)将式(3)(4)(5)代入式(2)后得:(6)利用(1)式即得:v(-k)= -v(k)因为电子占据某个状态的几率只同该状态的能量有关,即:E(k)=E(-k)故电子占有k状态和-k状态的几率相同,且v(k)=-v(-k)故这两个状态上的电子电流相互抵消,晶体中总电流为零。
例2.已知一维晶体的电子能带可写成:式中,a为晶格常数。
试求:(2)能带底部和顶部电子的有效质量。
解:(1)由E(k)关系(1)(2)令得:当时,代入(2)得:对应E(k)的极小值。
当时,代入(2)得:对应E(k)的极大值。
根据上述结果,求得和即可求得能带宽度。
故:能带宽度(3)能带底部和顶部电子的有效质量:习题与思考题:1 什么叫本征激发温度越高,本征激发的载流子越多,为什么试定性说明之。
2 试定性说明Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数的原因。
3 试指出空穴的主要特征。
4 简述Ge、Si和GaAs的能带结构的主要特征。
5 某一维晶体的电子能带为其中E0=3eV,晶格常数a=5×10-11m。
求:(2)能带底和能带顶的有效质量。
6原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同7晶体体积的大小对能级和能带有什么影响?8描述半导体中电子运动为什么要引入“有效质量”的概念?用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性?9 一般来说,对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此为什么10有效质量对能带的宽度有什么影响?有人说:“有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄。
第一章习题1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E V (k)分别为:E c =0220122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ 0m 。
试求:为电子惯性质量,nm a ak 314.0,1==π(1)禁带宽度;(2) 导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化 解:(1)eV m k E k E E E k m dk E d k m kdk dE Ec k k m m m dk E d k k m k k m k V C g V V V c 64.012)0()43(0,060064338232430)(2320212102220202020222101202==-==<-===-==>=+===-+ 因此:取极大值处,所以又因为得价带:取极小值处,所以:在又因为:得:由导带:043222*83)2(1m dk E d mk k C nC===sN k k k p k p m dk E d mk k k k V nV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11-===⨯=-=-=∆=-== 所以:准动量的定义:2. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:tkhqE f ∆∆== 得qE k t -∆=∆sat sat 137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(----⨯=⨯⨯--=∆⨯=⨯⨯--=∆ππ第三章习题和答案1. 计算能量在E=E c 到2*n 2C L 2m 100E E π+= 之间单位体积中的量子态数。
解322233*28100E 21233*22100E 0021233*231000L 8100)(3222)(22)(1Z VZZ )(Z )(22)(2322C 22C L E m h E E E m V dE E E m V dE E g V d dEE g d E E m V E g c nc C n l m h E C n l m E C n n c n c πππππ=+-=-====-=*++⎰⎰**)()(单位体积内的量子态数)(2. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
第1章 半导体中的电子状态1. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量()c E k 和价带极大值附近能量()v E k 分别为2222100()()3c h k k h k E k m m -=+,22221003()6v h k h k E k m m =-0m 为电子惯性质量,112k a =, 0.314a =nm 。
试求:1) 禁带宽度;2) 导带底电子有效质量; 3) 价带顶电子有效质量;4) 价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
解:1) 禁带宽度g E ,根据22100()2()202c dE k h k k h k dk m m -=+=,可求出对应导带能量极小值min E 的k 值:min 134k k =, 由题目中()c E k 式可得:min 12min 3104()4c k k k h E E k k m ====; 根据20()60v dE k h k dk m =-=,可以看出,对应价带能量极大值max E 的k 值为:k max = 0;可得max 221max 00()6v k k h k E E k m ====,所以2221min max 2001248g h k h E E E m m a=-== 2) 导带底电子有效质量m n由于2222200022833c d E h h h dk m m m =+=,所以202238nc m h md E dk== 3) 价带顶电子有效质量vn m由于22206v d E h dk m =-,所以20226v nv m h m d E dk ==- 4) 准动量的改变量min max 133()48hh k h k k hk a∆=-==2. 晶格常数为0.25 nm 的一维晶格,当外加102 V/m 、107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:设电场强度为E ,电子受到的力f 为dkf hqE dt==(E 取绝对值),可得h dt dk qE =, 所以12012ta h h t dt dk qE qE a===⎰⎰,代入数据得: 34619106.62108.310()1.6102(2.510)t s E E----⨯⨯==⨯⨯⨯⨯⨯ 当E = 102 V/m 时,88.310t s -=⨯;当E = 107 V/m 时,138.310t s -=⨯。
半导体物理课后习题答案(精)第一章习题1.设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量EV(k)分别为:h2k2h2(k-k1)2h2k213h2k2Ec= +,EV(k)=-3m0m06m0m0m0为电子惯性质量,k1=(1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量;(3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)导带:2 2k22(k-k1)由+=03m0m03k14d2Ec2 22 28 22=+=>03m0m03m0dk得:k=所以:在k=价带:dEV6 2k=-=0得k=0dkm0d2EV6 2又因为=-<0,所以k=0处,EV取极大值2m0dk2k123=0.64eV 因此:Eg=EC(k1)-EV(0)=412m02=2dECdk23m0 8πa,a=0.314nm。
试求: 3k处,Ec取极小值4 (2)m*nC=3k=k14 (3)m*nV 2=2dEVdk2=-k=01m06(4)准动量的定义:p= k所以:∆p=( k)3k=k14 3-( k)k=0= k1-0=7.95⨯10-25N/s42. 晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107 V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:f=qE=h(0-∆t1=-1.6⨯10∆k ∆k 得∆t= ∆t-qEπa)⨯10)=8.27⨯10-13s2-19=8.27⨯10-8s (0-∆t2=π-1.6⨯10-19⨯107第三章习题和答案100π 21. 计算能量在E=Ec到E=EC+ 之间单位体积中的量子态数。
*22mLn31*2V(2mng(E)=(E-EC)2解 232πdZ=g(E)dEdZ 单位体积内的量子态数Z0=V22100π 100h Ec+Ec+32mnl8mnl1*2(2mn1VZ0=g(E)dE=⎰(E-EC)2dE23⎰VEC2π EC 23100h*2 =V(2mn2(E-E)Ec+8m*L2 Cn32π2 3Ecπ =10003L32. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
第一章 半导体中的电子状态1. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k )和价带极大值附近能量E v (k )分别为:E c (k)=0223m k h +022)1(m k k h −和E v (k)= 0226m k h -0223m k h ; m 0为电子惯性质量,k 1=1/2a ;a =0.314nm 。
试求: ①禁带宽度; ②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量; ④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解] ①禁带宽度Eg 根据dk k dEc )(=0232m k h +012)(2m k k h −=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值: k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m h ;由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =02126m k h ;∴Eg=E min -E max =021212m k h =20248a m h =112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(−−−−×××××××=0.64eV②导带底电子有效质量m n 0202022382322m h m h m h dkE d C =+=;∴ m n=022283/m dk E d h C= ③价带顶电子有效质量m ’ 02226m h dk E d V −=,∴0222'61/m dk E d h m Vn−== ④准动量的改变量 h △k=h (k min -k max )= a h k h 83431=3. 如果n 型半导体导带峰值在[110]轴上及相应对称方向上,回旋共振实验结果应如何?[解] 根据立方对称性,应有下列12个方向上的旋转椭球面:[][][]110,101,011,110,⎡⎤⎣⎦ 101,011;⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦ [110],101,011,110,⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦ 101,011;⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦ 则由解析几何定理得, B 与3k 的夹角余弦cos θ为:cos θ= 式中, 123B b i b j b k =++. 对不同方向的旋转椭球面取不同的一组123(,,)k k k .(1) 若B 沿[111]方向,则cos θ可以取两组数. 对[][]110,110,101,101,⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦[]011,011⎡⎤⎣⎦方向的旋转椭球得: cos θ=对110,110,101,101,011,011⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦方向的旋转椭球得:cos θ∴当cos θ=时: 22cos 3θ= 21sin 3θ= n t m m =∵ *n t m m ∴= 当cos 0θ=时; 2cos 0θ= 2sin 1θ= 同理得: *n m = 由*c n qB m ω=可知,当B 沿(111)方向时应有两个共振吸收峰. (2) 若B 沿(110)方向,则cos θ可以取三组数. 对[]110,110⎡⎤⎣⎦ 方向旋转椭球, cos 1θ= 对110,110⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦ 方向旋转椭球, cos 0θ= 对[][]011,011,011,011,101,101,101,101⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦方向的旋转椭球, 1cos 2θ=当cos 1θ=时: 2cos 1θ= 2sin0θ= 得: *n m 当cos 0θ=时:2cos 0θ= 2sin1θ= 得: *n m = 当1cos 2θ=时: 21cos 4θ= 23sin 4θ= 得: *n m 故,应有三个吸收峰. (3)若B 沿[100]方向,则cos θ可以取两组数.对[][]110,110,110,110,101,101,101,101⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦方向上的旋转椭球得: cos θ= 对[]011,011,011,011⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦方向上的旋转椭球得:cos 0θ= 当cos θ=时, 21cos 2θ= 21sin 2θ= 得: *n t m m = 当cos 0θ=时: 2cos 0θ= 2sin 1θ= 得*n m = .(4) B 沿空间任意方向时, cos θ最多可有六个不同值,故可以求六个*nm ,所对应的六个共振吸收峰.第二章 半导体中的杂志和缺陷能级7. 锑化铟的禁带宽度0.18V g E e =,相对介电常数17r ε=,电子的有效质量00.015n m m ∗=,0m 为电子的惯性质量,求ⅰ)施主杂质的电离能,ⅱ)施主的若束缚电子基态轨道半径。
Solutions To The Problems Of Semiconductor〔Part I〕 Solutions To The Problems Of Chapter 1st&3rd〔CEIE of HBU 席砺莼〕1-1.〔P32〕设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec〔k〕和价带极大值附近能量Ev〔k〕分别为:h2k2h2(k−k1)2h2k23h2k2+和Ev(k)= -; Ec(k)=3m0m06m0m0m0为电子惯性质量,k1=1/2a;a=0.314nm。
试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量;③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解] ①禁带宽度Eg 22(k−k1)22kdEc(k)根据=+=0;可求出对应导带能量极小值Emin的km03m0dk值:kmin=k1,由题中EC式可得:Emin=EC(K)|k=kmin=2k1; 4m034由题中EV式可看出,对应价带能量极大值Emax的k值为:kmax=0;2k122k12h2;∴Eg=Emin-Emax==并且Emin=EV(k)|k=kmax=12m06m048m0a2(6.62×10−27)2=0.64eV =−28−82−1148×9.1×10×(3.14×10)×1.6×10②导带底电子有效质量mn2d2EC222h28232dEC=+=;∴ m=m0 n=/223m0m03m08dkdk③价带顶电子有效质量m’2d2EV162'2dEV=−,∴==−m/m0 n6m0dk2dk2④准动量的改变量1-2.〔P33〕晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
133h△k=(kmin-kmax)= k1= [毕] 48aSolutions To The Problems Of Semiconductor〔Part I〕 [解] 设电场强度为E,∵F=h∴t=∫0dt=∫t12a0hdk=qE〔取绝对值〕∴dt=dtqEdk;E=107V/m时,t=8.3×1013当E=102 V/m时,t=8.3×108〔s〕〔s〕。
第一篇习题 半导体中的电子状态1-1、 什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?试定性说明之。
1-2、 试定性说明Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数的原因。
1-3、 试指出空穴的主要特征。
1-4、简述Ge 、Si 和GaAS 的能带结构的主要特征。
1-5、某一维晶体的电子能带为[])sin(3.0)cos(1.01)(0ka ka E k E --=其中E 0=3eV ,晶格常数a=5х10-11m 。
求:(1) 能带宽度;(2) 能带底和能带顶的有效质量。
第一篇题解 半导体中的电子状态 刘诺 编1-1、 解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(≥E g )被激发到导带成为导电电子的过程就是本征激发。
其结果是在半导体中出现成对的电子-空穴对。
如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有更多的电子被激发到导带中。
1-2、 解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。
温度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。
反之,温度降低,将导致禁带变宽。
因此,Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数。
1-3、解:空穴是未被电子占据的空量子态,被用来描述半满带中的大量电子的集体运动状态,是准粒子。
主要特征如下:A、荷正电:+q;B、空穴浓度表示为p(电子浓度表示为n);C、E P=-E nD、m P*=-m n*。
1-4、解:(1)Ge、Si:a)Eg (Si:0K) = 1.21eV;Eg (Ge:0K) = 1.170eV;b)间接能隙结构c)禁带宽度E g随温度增加而减小;(2)GaAs:a)E g(300K)第二篇习题-半导体中的杂质和缺陷能级刘诺编2-1、什么叫浅能级杂质?它们电离后有何特点?2-2、什么叫施主?什么叫施主电离?施主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出n型半导体。
2-3、什么叫受主?什么叫受主电离?受主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出p型半导体。
第一章习题1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E V (k)分别为:E C (K )=0220122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ 0m 。
试求:为电子惯性质量,nm a ak 314.0,1==π(1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化 解:(1)eVm k E k E E E k m dk E d k m kdk dE Ec k k m m m dk E d k k m k k m k V C g V V V c 64.012)0()43(0,060064338232430)(2320212102220202020222101202==-==<-===-==>=+===-+ 因此:取极大值处,所以又因为得价带:取极小值处,所以:在又因为:得:由导带:043222*83)2(1m dk E d mk k C nC===sN k k k p k p m dk E d mk k k k V nV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11-===⨯=-=-=∆=-== 所以:准动量的定义:2. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:t k hqE f ∆∆== 得qEk t -∆=∆ sat sat 137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(----⨯=⨯⨯--=∆⨯=⨯⨯--=∆ππ补充题1分别计算Si (100),(110),(111)面每平方厘米内的原子个数,即原子面密度(提示:先画出各晶面内原子的位置和分布图)Si 在(100),(110)和(111)面上的原子分布如图1所示:(a )(100)晶面 (b )(110)晶面(c )(111)晶面补充题2一维晶体的电子能带可写为)2cos 81cos 87()22ka ka ma k E +-=(, 式中a 为 晶格常数,试求(1)布里渊区边界;(2)能带宽度;(3)电子在波矢k 状态时的速度;(4)能带底部电子的有效质量*n m ;(5)能带顶部空穴的有效质量*p m解:(1)由0)(=dk k dE 得 an k π= (n=0,1,2…)进一步分析an k π)12(+= ,E (k )有极大值,222)mak E MAX =( ank π2=时,E (k )有极小值所以布里渊区边界为an k π)12(+=(2)能带宽度为222)()ma k E k E MIN MAX =-( (3)电子在波矢k 状态的速度)2sin 41(sin 1ka ka ma dk dE v -== (4)电子的有效质量)2cos 21(cos 222*ka ka mdkEd m n-== 能带底部 an k π2=所以m m n 2*= (5)能带顶部 an k π)12(+=, 且**n p m m -=,所以能带顶部空穴的有效质量32*mm p =半导体物理第2章习题1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
半导体物理学习题答案(有目录)半导体物理习题解答目录1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量E c(k)和价带极大值附近能量E v(k)分别为: (2)1-2.(P33)晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
(3)3-7.(P81)①在室温下,锗的有效状态密度Nc=1.05×1019cm-3,Nv=5.7×1018cm-3,试求锗的载流子有效质量mn*和mp*。
(3)3-8.(P82)利用题7所给的Nc和Nv数值及Eg=0.67eV,求温度为300k和500k时,含施主浓度ND=5×1015cm-3,受主浓度NA=2×109cm-3的锗中电子及空穴浓度为多少? (4)3-11.(P82)若锗中杂质电离能△ED=0.01eV,施主杂质浓度分别为ND=1014cm-3及1017cm-3,计算(1)99%电离,(2)90%电离,(3)50%电离时温度各为多少? (5)3-14.(P82)计算含有施主杂质浓度ND=9×1015cm-3及受主杂质浓度为1.1×1016cm-3的硅在300k 时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。
(6)3-18.(P82)掺磷的n型硅,已知磷的电离能为0.04eV,求室温下杂质一般电离时费米能级的位置和磷的浓度。
(7)3-19.(P82)求室温下掺锑的n型硅,使EF=(EC+ED)/2时的锑的浓度。
已知锑的电离能为0.039eV。
(7)3-20.(P82)制造晶体管一般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型的外延层,再在外延层中扩散硼、磷而成。
①设n型硅单晶衬底是掺锑的,锑的电离能为0.039eV,300k时的EF位于导带底下面0.026eV处,计算锑的浓度和导带中电子浓度。
(8)4-1.(P113)300K时,Ge的本征电阻率为47Ω.cm,如电子和空穴迁移率分别为3900cm2/V.S和1900cm2/V.S,试求本征Ge的载流子浓度。
半导体物理导论课后习题答案第1-3章1.倒格子的实际意义是什么?一种晶体的正格矢和相应的倒格矢是否有一一对应的关系?解答:倒格子的实际意义是由倒格子组成的空间,实际上是状态空间空间,在晶体的X 射线衍射照片上的斑点实际上就是倒格子所对应的点子。
由正格子的基矢(a 1,a 2,a 3)就得到倒格子的矢量(b 1,b 2,b 3),其中其中Ω是晶格原胞的体积。
由此可以唯一地确定相应的倒格子空间。
显然,倒格子与正格子之间有如下关系:所以一种晶体的正格矢和相应的倒格矢有一一对应的关系。
Ω⨯=Ω⨯=Ω⨯=213132321222a a b a a b a a b πππ,,ij i i πδ2=⋅b a (i,j=1,2,3)2.假设有一立方晶体,画出以下各晶面(1)(100);(2)(110);(3)(111);(4)(100);(5)(110);(6)(111)3.已知Si的晶格常数或单胞的边长a=5.43089 Å, 求:(1)Si的原子体密度。
(2)(111)面、(110)面以及(100)面的原子面密度,比较哪个晶面的面密度最大?哪个晶面的面密度最小?解:(1)每个晶胞中有8个原子,晶胞体积为a 3,每个原子所占的空间体积为a 3/8,因此每立方厘米体积中的硅原子数为:原子体密度=8/a 3=8/(5.43×108)3=5×1022(个原子/cm 3)(2)(111)面为一个边长为的等边三角形,有效原子数为等边三角形的面积为个原子(面心原子)(顶角原子)25213313=⨯+⨯4521022212a a a S =⨯⨯=2a所以,(111)面的原子面密度为(110)面为一个边长为 的长方形,有效原子数为长方形的面积为所以,(110)面的原子面密度为22524525aa ==等边三角形面积有效原子数2a a ⨯个原子(体对角线原子)(面心原子)(顶角原子)42212414=+⨯+⨯222a a a S =⨯=222224aa ==等边三角形面积有效原子数(100)面为一个边长为 的正方形,有效原子数为正方形的面积为所以,(100)面的原子面密度为因此,(111)面的原子面密度∶(110)面的原子面密度∶(100)面的原子面密度为 ∶ ∶ = ∶ ∶1说明(111)面的原子面密度最高,(100)面的原子面密度最低。
第一章习题1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E V (k)分别为:E c =0220122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ 0m 。
试求:为电子惯性质量,nm a ak 314.0,1==π(1)禁带宽度;(2) 导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化 解:(1)eV m k E k E E E k m dk E d k m kdk dE Ec k k m m m dk E d k k m k k m k V C g V V V c 64.012)0()43(0,060064338232430)(2320212102220202020222101202==-==<-===-==>=+===-+ 因此:取极大值处,所以又因为得价带:取极小值处,所以:在又因为:得:由导带:043222*83)2(1m dk E d mk k C nC===sN k k k p k p m dk E d mk k k k V nV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11-===⨯=-=-=∆=-== 所以:准动量的定义:2. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:tkhqE f ∆∆== 得qE k t -∆=∆sat sat 137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(----⨯=⨯⨯--=∆⨯=⨯⨯--=∆ππ第三章习题和答案1. 计算能量在E=E c 到2*n 2C L 2m 100E E π+= 之间单位体积中的量子态数。
解322233*28100E 21233*22100E 0021233*231000L 8100)(3222)(22)(1Z VZZ )(Z )(22)(2322C22C L E m h E E E m V dE E E m V dE E g V d dEE g d E E m V E g c nc C n l m h E C n l m E C n n c n c πππππ=+-=-====-=*++⎰⎰**)()(单位体积内的量子态数)(2. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
第一章 1.原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同, 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同。
答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。
当原子互相靠近结成固体时,各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层,和孤立原子一样;然而,外层价电子那么参与原子间的相互作用,应该把它们看成是属于整个固体的一种新的运动状态。
组成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相似,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相似。
2.描述半导体中电子运动为什么要引入"有效质量"的概念, 用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性。
答:引进有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。
惯性质量描述的是真空中的自由电子质量,而不能描述能带中不自由电子的运动,通常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说, 对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此,为什么?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于掺杂的浓度,掺杂浓度高,禁带就会变窄,掺杂浓度低,禁带就比拟宽。
4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:"有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄.是否如此,为什么?答:有效质量与能量函数对于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1〔k〕随k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。
5.简述有效质量与能带结构的关系;答:能带越窄,有效质量越大,能带越宽,有效质量越小。
6.从能带底到能带顶,晶体中电子的有效质量将如何变化?外场对电子的作用效果有什么不同;答:在能带底附近,电子的有效质量是正值,在能带顶附近,电子的有效质量是负值。
6第1章 半导体中的电子状态1•设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量 EJk)和价带极大值附近能量 E v (k)3h 2k 2 mbm 0为电子惯性质量, k 1 12a , a 0.314nm 。
试求: 2 2 分别为E c (k) 3m o h 2(k k 1)2,E v (k) h%2mb 6m ° 1) 禁带宽度;2) 导带底电子有效质量; 3) 价带顶电子有效质量;4) 价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
解:1)禁带宽度E g , 根据dEc(k)埜 dk 2g 2h 2(k k) 10,可求出对应导带能量极小值E m in 的k 值:mb k min k 1, 4 由题目中Ec (k)式可得: E min E c (k) 3 k kmin 4k1M ; 4m 0 根据dE\k ) 泌 dk g 0,可以看出,对应价带能量极大值 E max 的 k 值为:k max =0 ;可得 E max E v (k)k k maxh 2ki 6g ,所以E gE m . E m axh 2k 2 12m °h 2 48m 0a 22)导带底电子有效质量 m n 禹工 d 2E c 2h 2 2h 2 由于 扌dk 3m 0 mt8h 2 3g 所以3m o83)价带顶电子有效质量 v m n 由于驾dk 2m o型,所以咗m o4)准动量的改变量2E v dk 23 k max)hk 142.晶格常数为0.25 nm 的一维晶格,当外加 102V/m 、107 V/m 的电场时,试分别计算电子 自能带底运动到能带顶所需的时间。
t丄 hh 1所以t dt 2a —dk — 1,代入数据得:0 c 匚 c 匚Oa0 0qEqE 2a丄6.62 10348.3 10 (、t(s) 19一2 (2.5 ―10、1.6 10E 10 )E当 E = 102 V/m 时, t8.3 10 8s ; i 当E= A O =107 V/m 时,t 8.3 10 s 。
第2章 半导体中的杂质和缺陷能级1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?答:(1)实际半导体中原子并不是静止在具有严格周期性的晶格的格点位置上,而是在其平 衡位置附近振动;(2) 实际半导体材料并不是纯净的,而是含有若干杂质,即在半导体晶格中存在着与组成半 导体材料的元素不同的其他化学元素的原子; (3)实际半导体晶格结构并不是完整无缺的, 而存在着各种形式的缺陷, 如点缺陷、线缺陷、面缺陷等。
2.以As 掺入Ge 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和 n 型半导体。
答:As 有5个价电子,其中的四个价电子与周围的四个Ge 原子形成共价键,还剩余一个电子,同时As 原子所在处也多余一个正电荷,称为正离子中心。
所以,一个 As 原子取代一个Ge 原子,其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子。
多余的电子束缚在正电中心, 但这种束缚很弱,很小的能量就可使电子摆脱束缚,成为在晶3h8a解:设电场强度为E ,电子受到的力f 为fdk咕qE (E 取绝对值),可得dthqEdk ,格中导电的自由电子,而As原子形成一个不能移动的正电中心。
这个过程叫做施主杂质的电离过程。
能够施放电子而在导带中产生电子并形成正电中心,称为施主杂质或N型杂质, 掺有施主杂质的半导体叫N型半导体。
3. 以Ga掺入Ge中为例,说明什么是受主杂质、受主杂质电离过程和p型半导体。
答:Ga有3个价电子,它与周围的四个Ge原子形成共价键,还缺少一个电子,于是在晶体的共价键中产生了一个空穴,而Ga原子接受一个电子后所在处形成一个负离子中心。
所以,一个Ga原子取代一个Ge原子,其效果是形成一个负电中心和一个空穴,空穴束缚在Ga原子附近,但这种束缚很弱,很小的能量就可使空穴摆脱束缚,成为在晶格中自由运动的导电空穴,而Ga原子形成一个不能移动的负电中心。
这个过程叫做受主杂质的电离过程,能够接受电子而在价带中产生空穴,并形成负电中心的杂质,称为受主杂质,掺有受主型杂质的半导体叫P型半导体。
4. 以Si在GaAs中的行为为例,说明IV族杂质在III-V族化合物中可能出现的双性行为。
答:Si取代GaAs中的Ga原子则起施主作用,Si取代GaAs中的As原子则起受主作用。
导带中电子浓度随硅杂质浓度的增加而增加,当硅杂质浓度增加到一定程度时趋于饱和。
硅先取代Ga原子起施主作用,随着硅浓度的增加,硅取代As原子起受主作用。
第3章半导体中载流子的统计分布Geh21.计算能量在E Ec到 E E c 100礦之间单位体积中的量子态数。
解:导带底E c附近单位能量间隔的量子态数为:dZgc(E) - 4窖(E E c)1/2h在dE范围内单位体积中的量子态数为: dZVg c(E) dE1 所以Z -V E2dZE1g c(E)VE2dEE1(2m n)3/2h3E,Ec100』8 m* L2n(EEFdE代入数值得:Z 7. (1)在室温下,2mdnh33/2_ 233/2h1008m;L21000 /3L3。
锗的有效密度肌1.051019cm N v 5.7 10183cm ,试求锗的载流300子有效质量m n 和m p 。
计算77 K 时的N c 和N v ,已知300 K 时,E g 0.67eV 。
77 K 时,E g 0.76eV ,求这两个温度时锗的本征载流子浓度。
⑵77 K 时,1017cm 3,假定受主浓度为零,而E c E D 0.01eV ,求锗中施主浓度23解:(1)室温时,T = 300 K ,k 0 1.380 10 J/K ,h 6.625 10锗的电子浓度为N D 为多少?34J s ,对于锗:19 3 18 3N c 1.05 10 cm , N v 5.7 10 cm2 N ;3 h2 c一由N c 2(2叫门可以推出m ;2h 32 k °T,代入数值得:1923 34 21.05 101936.625 10 34 *2m n232 3.14 1.380 10 233005.097 10 31 kg ;由N v 2(2叫⑷h 3可以推出m p2 k °T,代入数值得:m p34 25.7 101836.625 10 2233.392 77 K 2 3.141.380 1030010 31 kg 。
时的N c 和N v :2(2 m ;k 0T ')'h 332可得: N c N c所以N 2 (2 m n k °T) h 3c(77K)77 3 2 3001.05 10191.365 1810 cm同理,可得: N v 所以N v(77K)775.7 1018 7.41 1017cm 3锗的本征载流子浓度:n (N c N v )1/2 exp(15300 K 时,E g 0.67eV ,此时 n i(300K) n i(300K)1.05 1019 5.7 1018 * exp 0.67 1.6 10 19232 1.380 103001.844 1013cm 377 K 时,E g 0.76eV ,此时 n (77K ) n i(77K)1.365 1019 7.41 1017 2 exp0.76 1.6 10 192 1.380 1023 774.49710 7cm 3⑵77 K 时,这时处于低温电离区, 锗导带中的电子全部由电离施主杂质提供,则有P 00,n 。
n D ,故 n °(警)1/2exp( 2 需)推出N D 已知 17 n ° 10 cm 3 ,E c E D 0.01eV ,N C (77K ) 0.01 1.6 10 19 2N D 2 n ° exp( Ec2k °T N c — 2E D ) 1.365 1018cm 3,可得: 172 10 exp 23 2 1.380 10 77 16 6.604 1016 1.365 1018cm 38.禾U 用题7所给的N c 和N v 数值及E g 0.67eV ,求温度为300 K 和500 K 时,含施主浓 、 15 3度N D 5 10 cm 、受主浓度N A 2 9 3 10 cm 的锗中电子及空穴浓度为多少? 解:(1)当T = 300 K 时,对于锗: N D15 3 9 3 5 10 cm , N A 2 10 cm 由于 N D N A ,则有 n ° N D N A 5 1015 2 109 5 10 15 cm 3 因为 n (NEZ 讣) 1.05 1019 5.7 10181/2 exp 0.67 1.6 10 19 1.380 1023 300 所以 13 3 1.96 10 cm 2ni13 2 1.96 10 P 0n °5 107.7 1010cm 3。
(2)当 T = 500 K 时E g (500 K) E g (0) 0.74374.774 10——5°L 0.581eV 1633-7 (教材64页),可得:n i 2.2 10 cm ,属于过渡区,(N D N A )[(N ° N A )24n 「2]1/22,代入数值得 n °2.4641016cm 3,14 30.01eV ,施主杂质浓度分别为N D 10 cm 及17 3116 当N D 10 cm 3时,得到 一 90% 电离,D 0.1,P o ni 21.96 1013 2 n o5 10151.964 1016cm 3【也可以用N cT ' 32N c,T ' /2EN v , n i (N c N v )1" exp()求得山。
】 T k °T1017cm 3。
计算99%电离、90%电离、 50%电离时温度各为多少?解:未电离杂质占的百分比为: 2N DN cexpE Dk °T E Dk °TlnD N c 2N D由于 E D 19 0.01 1.6 10 1.380 10 23116, N c 2(2 m n kJ) h 32 1015 y 3/2 3cm所以 世 in DN,T 2N DIn2 1015y 3/2(1) 99% 电离,D 0.01, 当N D即: 2N DIn 1015N D丁3/214 310 cm 时,代入上式得:101T 3/22.3116 3l nT 2.3 ;T 2116 当N D 1014cm 3时,得到|lnT;500 235查图 n °11.若锗中施主杂质电离能E D沖9.2217 3 ,D 10 cm 时, 得到 兰?InT 6.9T 2(3) 50%电离不能再用上式 因为 N D n D 2 即: 1 -exp 2 N D E D E F ) -------------------k )T N D2exp晋所以 exp E D &TE F 4exp E D E F&T取对数得: E D E F ln 4 E D E F k °T即: E F E D k 0T ln 2 由 n 0 N c exp E c E F N D匹,取对数得:2E c E D k °T In 2k 0T In 丛 2N c则得到 E Dk °T In 2 InN D 2N c,所以 E Dk °T'nNN D 14 10 cm 3时, 116 3,〒InT 3T 2“「7 3 N D 10 cm 时, 当 即 当 N cN D 即:寿In2 1015 T’21014In 20Ti InTIn 20i InT3.9 这里的对数方程可用图解法或迭代法解出。