干膜教育训练课程
干膜教育训练课程

干膜教育训练课程

2019-12-19
干膜专业培训讲义
干膜专业培训讲义

磨板酸洗 水洗 机械磨板水洗烘干目的:去除铜面无机氧化物。 喷淋压力:2.0±0.5 Kg/cm2 H2SO4浓度:3%~5%目的:粗化铜面,使其表面积达到最 大化。磨辘规格:50

2024-02-07
干膜之迷思正稿
干膜之迷思正稿

隔膜層(PE)精品课件9感光層(Photo resist)主要組成塑化劑及附著力促進劑(plasticizer & adhesion promoter) 感光啟始劑及光敏劑

2024-02-07
光阻干膜用PET薄膜的主要性能
光阻干膜用PET薄膜的主要性能

光阻干膜用PET薄膜的主要性能

2024-02-07
干膜培训讲义
干膜培训讲义

第二部分 内层工序流程及原理内层工序流程图基板前处理 剥除PE膜贴 膜曝 光剥除PET膜褪膜显 影蚀刻一、基板前处理1、原理或目的用化学或物理的方法去除油污、无机盐类及氧化物,达到

2024-02-07
干膜之迷思正稿
干膜之迷思正稿

蓋膜層(PET) 一、支持保護感光層 二、隔絕氧氣 三、防止或抑制光 聚合作用各層功能polyester 感光層 Photo resist 產生光聚合作用 光聚合作用 polyet

2024-02-07
干膜
干膜

干膜及干膜制程基础知识目录 工作环境 干膜结构及组成 干膜的种类 干膜前处理 压膜工作环境 无尘室(尘埃量≤10000颗/立方英尺,颗 粒小于0.5um) 恒温、恒湿(温度:2

2024-02-07
干膜制程教育训练
干膜制程教育训练

則仍能保持光亮的銅原色去膜一 .目的 : 將殘留的光阻劑完全剝除乾淨 二 . 原理 :此一製程是採液鹼(NaOH 5%)為主劑,或加入少量的“丁基溶纖素”(BCS),使阻劑層易於溶

2024-02-07
干膜与前处理
干膜与前处理

发态汞再以放出光能的方式将能量放出,以回到安定状态。这就是弧光灯发光的原理3.汞氙短弧灯管﹕是一种不连续光谱光源,其中主要几个能量峰值均集中再在波长为365-560nm 之间,电极

2024-02-07
干膜学习报告
干膜学习报告

B.干膜韌性增強,對切刀可能會有特殊要求。(2ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ顯影﹕A.顯影速度升快到3.4-3.5m/min(原來﹕3.0m/min)B.干膜flake大,易堵塞噴嘴,須

2024-02-07
干膜培训
干膜培训

工程培训材料 - 外层干菲林一:原理及工艺要求部分1:外层干菲林工序的作用:将菲林上的外层线路图像,转移到已完成沉铜工艺的覆铜板上,形成抗电镀干膜图像。简称图形转移2:工序流程磨板贴膜曝光冲影检查菲林制作3:磨板:1)磨板的作用:∙除去板面

2024-02-07
干膜讲义
干膜讲义

3、感光起始剂 、感光起始剂是影响感光速率的重要成 份,直接如影响曝光时间、作业效率。 干膜光致乳剂通常使用安息香醚、叔 丁基恿醌等作为光引发剂。在镐灯、高压 汞灯、碘镓灯310—

2024-02-07
长春干膜9020系列
长春干膜9020系列

技術資料FF-9020长春化工(江苏)有限公司江苏省常熟经济开发区沿江工业区长春路Chang Chun Chemical (Jiangsu) Co., Ltd.Changchun Rd.,Riverside Industrial Park,

2024-02-07
内层干膜
内层干膜

內層干膜•流程圖•烤板→砂紙打磨→前处理→压膜→静置→曝光→静置→显影→检验→蚀刻→检查→去膜→检查→IPQC检查→转下工序.•制程能力:•线经:3-3mil•板厚:0.1-1.6mm•基板尺寸:533*610mm•干膜的作用:干膜的作用主

2024-02-07
杜邦电镀干膜资料
杜邦电镀干膜资料

Riston ®PM300 技术说明书和制程介绍适用于镀铜,锡,锡铅的精细线路干膜P RODUCT F EATURES / A PPLICATIONS产品特性 / 运用• Negative working, aqueous processa

2024-02-07
干膜培训讲义
干膜培训讲义

2、流程目的:未曝光之干膜溶解,显现图形。 显 影 显影液浓度:0.8〜1.2% Na2CO3•H2O 显影温度:28〜32℃ 显影点:显影缸长的45〜65% 显影时间:24〜30

2024-02-07
内层干膜
内层干膜

內層干膜•流程圖•烤板→砂紙打磨→前处理→压膜→静置→曝光→静置→显影→检验→蚀刻→检查→去膜→检查→IPQC检查→转下工序.•制程能力:•线经:3-3mil•板厚:0.1-1.6mm•基板尺寸:533*610mm•干膜的作用:干膜的作用主

2024-02-07
干膜光阻项目立项报告
干膜光阻项目立项报告

干膜光阻项目立项报告一、项目提出的理由高质量发展是经济发展方式、产业结构、增长动力等发生系统性转变的一个过程。随着经济发展阶段、要素条件以及国际环境的变化,我国经济发展方式亟须要由资源和低成本劳动力等要素驱动转向创新驱动、由规模速度型的粗放

2024-02-07
新应材负型光阻测试报告 06-18
新应材负型光阻测试报告 06-18

➢1. 制程 ➢2. 测试条件 ➢3. AOI观测不良图片 ➢4. 总结制程技术部TOKENTOKENProcessCleanerDH-bakeCoatingPre-bakeExp

2024-02-07
【CN110622071A】干膜光阻剥离液组合物【专利】
【CN110622071A】干膜光阻剥离液组合物【专利】

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201980001421.7(22)申请日 2019.04.16(30)优先权数据10-2018-0044429 2018.04

2024-02-07